光學平臺產(chǎn)品及廠家

磁吸式光學演示器，光學，光路演示器，光的傳播出租
光學透鏡采用磁吸式，可以吸附在鐵板上，中間圓盤可以通過后面的旋鈕360度旋轉，五線光源采用5個開關控制，線條可任意使用。尺寸：35*12*30cm
更新時間:2025-11-02
LEDSD-B LED光電特性與色度學測量綜合實驗平臺
:led（light emitting diode），半導體發(fā)光二極管，是一種固態(tài)的半導體器件，它可以直接把電轉化為光，以其低功耗，高效率，高穩(wěn)定型等特點在照明、光通信等領域逐步替代傳統(tǒng)光源。對led的各項參數(shù)的理解與測試方式的掌握是開發(fā)應用此類器件的基礎。采用新光電器件及現(xiàn)在工業(yè)廣泛應用的測試方法開發(fā)的此套教學實驗產(chǎn)品適用于光電專業(yè)本科生基礎光電實驗及高職院校學生實訓課程。
更新時間:2025-10-29
BIPV-B 智能建筑綜合設計平臺
本實驗裝置是基于國家大學生創(chuàng)新實驗項目和競賽項目的基礎上改進完善提高后定型的。是結合了智能家居、智能樓宇的設計理念，融合光電技術、物聯(lián)網(wǎng)技術，嵌入式技術等等為一體的綜合性設計開發(fā)平臺，該裝置設計理念先進，科技含量高，綜合性強，屬于多學科交叉的實驗儀器，實驗設計平臺的各個部分，既有與光電、傳感器等的原理密切相關的基礎實驗，又有利用無線組網(wǎng)傳感、手機遠程
更新時間:2025-10-29
自動標定平臺
lite （for toxirae 3）自動標定平臺autorae 自動標定系統(tǒng)可用于華瑞系列便攜式氣體檢測儀的自動標定、自動回讀測試和自動充電。支持多種型號便攜表，無需連接計算機，操作簡單。 主要特點• 自動標定• 自動回讀測試• 自動充電̶
更新時間:2025-10-29
自動標定平臺
自動標定平臺品 說 明 autorae 自動標定系統(tǒng)可用于華瑞系列便攜式氣體檢測儀的自動標定、自動回讀測試和自動充電。支持多種型號便攜表，無需連接計算機，操作簡單。 主要特點• 自動標定• 自動回讀測試• 自動充電• 簡單的按鍵操作• 無需連接計算機• 標定和測試結果數(shù)據(jù)直接打印
更新時間:2025-10-29
標準型原子層沉積機ALD
picosun™ r-200標準型原子層沉積機，picosun™ r系列設備提供高質量ald薄膜的沉積技術，并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)極佳的均勻性，包括最具挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。 我們?yōu)橐后w、氣體和固體化學物提供的更高級的，易更換的前驅源系統(tǒng)，能夠在晶圓、3d樣品和各種納米特性的樣品上生長顆粒度最小的薄膜層。
更新時間:2025-10-27
牛津等離子體刻蝕機
plasmapro 80 rie 牛津等離子體刻蝕機,是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設計可實現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高質量的工藝。
更新時間:2025-10-27
等離子去膠機(灰化)
plasmapro 80 rie 牛津等離子體刻蝕機,是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設計可實現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高質量的工藝。
更新時間:2025-10-27
牛津ICP等離子沉積機
plasmapro 80 icpcvd 牛津icp等離子沉積機，是一種結構緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設計可實現(xiàn)快速晶圓裝卸，是科學研究、原型設計和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高性能工藝。
更新時間:2025-10-27
牛津Oxford等離子刻蝕與沉積設備
牛津oxford system 100 等離子刻蝕與沉積設備,該設備是一個靈活和功能強大的等離子體刻蝕和淀積工藝設備,具有工藝靈活性，適用于化合物半導體，光電子學，光子學，微機電系統(tǒng)和微流體技術.
更新時間:2025-10-27
英國牛津OXFORD 等離子體刻蝕機
plasmapro 80 icp 英國牛津oxford 等離子體刻蝕機,是一種結構緊湊、小型且使用方便的直開式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝質量。直開式設計允許快速的進行晶圓裝卸，是科學研究、原型設計和少量生產(chǎn)的理想選擇。 該設備通過優(yōu)化了的電冷卻技術和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高度穩(wěn)定的工藝結果。
更新時間:2025-10-27
牛津開放式樣品載入ALD設備
牛津opal開放式樣品載入ald設備，緊湊型開放式樣品載入原子層沉積（ald）系統(tǒng)，opal提供了業(yè)的熱ald設備，可以簡單明了的升使用等離子體，使得在同一緊湊設備中集成了等離子體和熱ald。
更新時間:2025-10-27
牛津離子束刻蝕機
已獲得利的高速襯底架（高達1000rpm）設計，并配備了白光光學監(jiān)視器（wlom）——更為準確的實時光學薄膜控制
更新時間:2025-10-27
牛津深硅刻蝕系統(tǒng)
plasmapro 100 estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng)，旨在提供深硅蝕刻（dsie）域的全方位的靈活性以滿足微電子機械系統(tǒng)（mems）、 先進封裝以及納米技術市場的各種工藝要求？紤]到研究和生產(chǎn)的市場發(fā)展，plasmapro 100 estrelas 提供了更加出色的工藝靈活性。
更新時間:2025-10-27
牛津原子層刻蝕機
plasmapro 100 ale 牛津原子層刻蝕機，市場應用廣，包括但不限于： mems和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術。它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發(fā)，通過打造質量滿足生產(chǎn)需求。
更新時間:2025-10-27
英國HHV 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)
英國hhv auto500 gb 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)，是門設計用于手套箱集成使用的鍍膜設備，滿足氧氣或水汽敏感的材料鍍膜的應用要求。該系統(tǒng)配了一個特殊結構的真空腔室，可直接與市場上大多數(shù)手套箱集成到一起。真空腔室的門可豎直滑動開關，嵌入手套箱內(nèi)，并占用很少的手套箱空間；其后門是鉸鏈扇式開關，能在不影響手套箱內(nèi)氣氛的情況下輕松維護腔室內(nèi)工藝組件。
更新時間:2025-10-27
英國HHV 科研工作者和電子顯微學家的多功能鍍膜設備
英國hhv auto 306 科研工作者和電子顯微學家的多功能鍍膜設備，是一種多功能的緊湊型鍍膜設備，設計用于滿足科研工作者和電子顯微學家的需求。auto306可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標準化工藝附件，提供一系列實驗技術以滿足現(xiàn)代化實驗室的需要。
更新時間:2025-10-27
英國HHV適合先進研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)
tf500/tf600 適合先進研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)，系統(tǒng)配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件，以精確的符合用戶需求。這兩個型號的系統(tǒng)都可以安裝多個鍍膜源，也都支持離子束處理選項。有一系列預進樣室（load lock）和樣品操縱裝置可供選擇，以提高真空鍍膜效率。
更新時間:2025-10-27
德國 PVA TePla 等離子去膠機
ion 100wb-40q 德國 pva tepla 等離子去膠機，最新推出的具有高性價比的真空等離子去膠設備，配備了一個圓筒石英腔，特別適用于半導體、led、mems等領域的光刻膠灰化、打殘膠、氮化物刻蝕、表面清潔等應用的批次處理。
更新時間:2025-10-27
美國TED 高分辨離子濺射儀
208hr高分辨離子濺射儀-適用于場發(fā)射掃描電鏡，可選擇多種鍍膜材料，精確的膜厚控制，樣品臺控制靈活，多個樣品座，樣品室?guī)缀慰勺，寬范圍的操作壓力，緊湊、現(xiàn)代的桌上型設計，操作容易。
更新時間:2025-10-27
全自動上側或后側光刻機
oai 6000 fsa 全自動上側或后側光刻機,具有完全自動化的亞微米分辨率的頂側或背側對齊，提供無與倫比的性價比。
更新時間:2025-10-27
美國Trion批量生產(chǎn)用設備去膠系統(tǒng)
jbx-8100fs 圓形電子束光刻系統(tǒng)· 最新高精密jbx-8100fs圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過全方位的設計優(yōu)化，實現(xiàn)更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
更新時間:2025-10-27
英國Nanobean 電子束光刻機
美coherent excistarxs準分子激光器超緊湊、輕型、高度可靠的紫外線光源
更新時間:2025-10-27
美Coherent 準分子激光器
美coherent excistarxs準分子激光器超緊湊、輕型、高度可靠的紫外線光源
更新時間:2025-10-27
英國 Durham 無掩膜光刻機
nanoarch p130是科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創(chuàng)新。
更新時間:2025-10-27
美國 OAI 光功率計
the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
更新時間:2025-10-27
美國 OAI 型UV光源
30型uv光源是高效的，可用于各種應用。光由橢圓形反射器收集并聚焦在積分/聚光透鏡陣列上，以在曝光平面產(chǎn)生均勻的照明。這種紫外光源提供多種光束尺寸，最大24英寸平方，輸出光譜范圍從220 nm到450 nm，使用適當?shù)臒簦òǎ］敵龉β史秶鷱?00瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配備快速更換過濾器組件，使用戶能夠輕松定制輸出光譜？蛇x配遠程排氣風扇。
更新時間:2025-10-27
美國 OAI 實驗室用手動曝光機
oai 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準器，采用經(jīng)過行業(yè)驗證的組件，使oai成為光刻設備行業(yè)的導者。 200型是臺式面罩對準器，需要小的潔凈室空間。它為研發(fā)，或有限規(guī)模，試點生產(chǎn)提供了經(jīng)濟的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空吸盤調平系統(tǒng)，襯底快速平穩(wěn)地平整，用于平行光掩模對準和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)能夠實現(xiàn)一微米分辨率和對準精度。
更新時間:2025-10-27
美國 OAI 型光學正面和背面光刻機系統(tǒng)
2012sm型自動邊緣曝光系統(tǒng)為使用標準陰影掩模技術的邊緣珠去除提供了一種經(jīng)濟高效的方法。 設計用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實現(xiàn)，從而增加該生產(chǎn)工具的通用性和高產(chǎn)量。
更新時間:2025-10-27
美國 OAI 自動化邊緣曝光系統(tǒng)
2012sm型自動邊緣曝光系統(tǒng)為使用標準陰影掩模技術的邊緣珠去除提供了一種經(jīng)濟高效的方法。 設計用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實現(xiàn)，從而增加該生產(chǎn)工具的通用性和高產(chǎn)量。
更新時間:2025-10-27
美國 OAI 邊緣曝光系統(tǒng)
兩種型號的2000型曝光系統(tǒng)包括uv光源，強度控制電源和機器人襯底處理子系統(tǒng)。 uv光源提供發(fā)散半角<2.0％的可調強度光束。電源從200w到2,000w。強度控制器傳感器直接連接到光源，用于精確的強度監(jiān)控。機器人襯底處理系統(tǒng)是微處理器控制的，并且可以被編程以適應各種各樣的襯底尺寸。
更新時間:2025-10-27
美國 OAI 光刻機
oai 5000e型大面積掩光刻機是一種先進的高性能，全自動掩模對準器和曝光工具，可為大型平板應用提供超精密，頂，亞微米對準和分辨率。 其靈活的設計允許在各種基材（圓形或方形）上印刷高達300mm或20“×20”。 曝光系統(tǒng)兼容近，中，或深紫外范圍的光刻膠，并具有計算機控制的led顯微鏡照明，在不太理想的觀察環(huán)境中觀察。
更新時間:2025-10-27
德國Eulitha 高分辨紫外光刻系統(tǒng)
phabler 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統(tǒng)的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司擁有突破性的phable 曝光技術，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結果非常均勻，質量很好。
更新時間:2025-10-27
瑞士 NanoFrazor 3D納米結構高速直寫機
raith 150 two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設備對實驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運行。
更新時間:2025-10-27
德國 Raith 150 Two 高分辨電子束曝光系統(tǒng)
raith 150 two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設備對實驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運行。
更新時間:2025-10-27
德國Raith Voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機
德國raith voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機,系統(tǒng)可實現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關鍵的指標，可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實驗室環(huán)境下，仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統(tǒng)對外界環(huán)境的容忍度。
更新時間:2025-10-27
德國Raith 電子束光刻機
ebpg5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟ebpg5200一樣的通用光刻平臺設計，對電子束直寫應用進行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
更新時間:2025-10-27
德Raith 電子束光刻機
系統(tǒng)中集成了高精度的激光干涉工作臺，運動行程為50 x 50 x 25mm，xy方向定位精度為2nm，可以實現(xiàn)精確的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。
更新時間:2025-10-27
瑞典 Mycronic 光刻機
主要優(yōu)勢提高分辨率 25%更佳的貼片性能 70%更快的寫入速度20%
更新時間:2025-10-27
瑞典 Mycronic 掩膜版光刻機
瑞典 mycronic 掩膜版光刻機 fps6100，用于制作高精度掩膜版，廣泛用于半導體，tft-lcd，微電子等行業(yè)。
更新時間:2025-10-27
德國 Sentech 等離子刻蝕機
etchlab 200 rie等離子體蝕刻機是一種將rie平行板電設計的優(yōu)點與直接負載的低成本設計相結合的直接負載等離子體蝕刻機系列。etchlab 200具有簡單快速的樣品加載功能，從零件到200a‰mm或300a‰mm直徑的晶圓片直接加載到電或載體上。
更新時間:2025-10-27
德國 Sentech 反應離子刻蝕機
entech rie si591 平板電容式反應離子刻蝕機，兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝；小型化和高度模塊化；sentech控制軟件
更新時間:2025-10-27
德國 Sentech 等離子刻蝕機
德國sentech icp-rie si 500 等離子刻蝕機，代表了電感耦合等離子體(icp)加工在研究和生產(chǎn)上的先優(yōu)勢。它以ptsa等離子體源、動態(tài)控溫基片電、全控真空系統(tǒng)、先進的sentech 控制軟件為基礎，采用遠程現(xiàn)場總線技術，為操作si 500提供了非常人性化的通用用戶界面。靈活性和模塊化是si 500的設計特點。
更新時間:2025-10-27
德國 Sentech 等離子體 ICP 干法刻蝕機
sentech si 500 電感耦合等離子體icp干法刻蝕系統(tǒng)，感應耦合等離子刻蝕機臺，低損傷納米結構刻蝕，高速率刻蝕，內(nèi)置icp等離子源，動態(tài)溫控。
更新時間:2025-10-27
紫外單面光刻機
ure-2000系列紫外單面光刻機，主要型號有：ure-2000a，ure-2000b，ure-20000/35,ure-20000/35a，ure-2000/25,ure-2000/17.由中國科學院制造生產(chǎn)。
更新時間:2025-10-27
紫外單面光刻機
ure-2000/a8 紫外單面光刻機，中科院設計生產(chǎn)。曝光面積： 200mm×200mm
更新時間:2025-10-27
紫外單面光刻機
ure-2000a 型紫外單面光刻機，中科院設計生產(chǎn)，曝光面積：150mmx150mm
更新時間:2025-10-27
紫外單面光刻機
ure-2000b 型紫外單面光刻機，中科院設計生產(chǎn)，曝光面積：100mmx100mm
更新時間:2025-10-27
紫外單面光刻機
ure-2000/35 型紫外單面光刻機，中科院設計生產(chǎn)，曝光面積：4 英寸 ，非常適合工廠（效率高，操作傻瓜型，自動化程度高）和高校教學科研 （可靠性好，演示方便） 。
更新時間:2025-10-27
芬蘭 PICOSUN 原子層沉積機
芬蘭 picosun r-200標準型ald,為液體、氣體和固體化學物提供的更高級的，易更換的前驅源系統(tǒng)，能夠在晶圓、3d樣品和各種納米特性的樣品上生長顆粒度最小的薄膜層。 在最基本的picosun™ r系列配置中可以選擇多個獨立的，完全分離的源入口匹配多種類型的前驅源。
更新時間:2025-10-27

最新產(chǎn)品

熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計 液質聯(lián)用儀 壓力試驗機 酸度計（PH計） 離心機 高速離心機 冷凍離心機 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標準物質 生物試劑