高級型號儀器,具有常見的所有功能
射線激發(fā)量的靈活性,激發(fā)量可根據(jù)測量面積大小和光譜組成而改變
通過硅漂移探測器,在 > 10萬cps(每秒計(jì)數(shù)率) 的超高信號量下也可以正常工作,而不會出現(xiàn)能量分辨率的降低
極低的檢測下限和出色的測量重復(fù)度
帶有快速、可編程 XY 工作臺的自動測量儀器
大容量便于操作的測量艙
測量極薄的鍍層,例如應(yīng)用于電子和半導(dǎo)體行業(yè)中
痕量分析,例如根據(jù) RoHS、玩具標(biāo)準(zhǔn)、包裝標(biāo)準(zhǔn)對有害物質(zhì)進(jìn)行檢測
進(jìn)行高精度的黃金和貴金屬分析
光伏產(chǎn)業(yè)
測量 NiP 鍍層的厚度和成分
XDV-SDD 產(chǎn)品簡介
X射線儀器綜合介紹
高性能X射線熒光測試儀,配有可編程XY平臺和Z軸,可自動測量超薄鍍層和分析痕量元素
聯(lián)系人鐘先生:1564055 QQ
品牌:德國ERICHSEN儀立信
名稱:儀立信PIG455破壞式涂層漆膜測厚儀
測試原理
德國儀立信PIG455測厚儀基于標(biāo)準(zhǔn)楔形切割程序:涂層以一個(gè)定義的角度被劃破到基材,涂層的厚度(s)根據(jù)切割面的三角形投影(b)計(jì)算出來,這由一個(gè)顯微鏡和切割角(а)決定。依據(jù)相同的原理,多層涂層系統(tǒng)的每層涂層厚度也可計(jì)算出來,對于符合AS 1580 Meth 408.1標(biāo)準(zhǔn)的附著力測試,在切割操作中涂層卷起的區(qū)域?qū)挾扰c投影b有關(guān)。
技術(shù)參數(shù):
測量范圍:2-200μm
精 度:1%
尺 寸:110mm×85mm×25mm
透鏡燈: 3.7V/0.3A/base P13.5 s
用 途:廣泛應(yīng)用于塑膠、木材、混凝土和其他非金屬材料表面漆層和類似的涂層的測量用于劃格法測定,可作多種涂層的組分分析
電池:2個(gè)AA電池
測量范圍:2~200 μm(標(biāo)配為6號碳化物刀頭)
放大倍數(shù):50倍
刻 度:2 mm(1/100 格)
凈重:0.4kg
配9V電池以及皮套
可選配件:
910924741 特殊 1號 刀頭 用于 2000 um 厚的涂層
910927441 特殊 4號 刀頭 用于 1000 um 厚的涂層
910927641 特殊 5號 刀頭 用于 500 um 厚的涂層
910927541 特殊 6號 刀頭 用于 200 um 厚的涂層
測量步驟:
1、 標(biāo)記:用標(biāo)記筆在所測量的涂層表面上作一小的比色標(biāo)記。
2、 劃痕:按刀頭朝下,放大鏡視孔朝前的姿勢抓緊儀器,將刀頭放在標(biāo)記正前方不遠(yuǎn)的地方,此時(shí)兩個(gè)導(dǎo)位螺栓和刀頭貼緊涂層表面,輕施壓力讓刀頭保持直線劃過標(biāo)記,且劃透涂層接觸到底材即可。
3、 數(shù)格:打開放大鏡視孔旁邊的燈泡開關(guān),將放大鏡聚焦在標(biāo)記上的劃痕上,調(diào)節(jié)底部的調(diào)焦旋鈕找到的焦距;旋轉(zhuǎn)上部的視孔筒和稍微調(diào)整儀器的位置使任意一長刻度線和面漆標(biāo)記劃痕線直線重疊,然后從左至右數(shù)小刻度格數(shù),直到第二層漆層或底材,此為單層或多層的小格總數(shù)。
4、取數(shù):依不同的型號將小格總數(shù)乘上相應(yīng)的系數(shù)即為涂層的各自單層或多層的總厚度。
校正:儀器出廠時(shí)已經(jīng)校正。使用一段時(shí)間后,如需保證精確的測量,可使用標(biāo)準(zhǔn)厚度進(jìn)行定期的驗(yàn)證。
設(shè)計(jì)和功能
德國儀立信PIG455測厚儀由1個(gè)黑色的氧化鋁部件構(gòu)成,它包含以下功能元件:
—可更換的碳化物刀頭,具有精確的角度切割刀。
—一個(gè)50倍的測量顯微鏡和一個(gè)刻度(2mm分為100格),它也適用于檢查任務(wù)。
—兩對支腳用于支持測量顯微鏡和導(dǎo)向碳化物刀頭。
—電池槽可放兩個(gè)AA電池
—透鏡燈可更好的照明樣品
—雙位開關(guān)設(shè)置(點(diǎn)亮/永久)

光譜反射儀是一種功能強(qiáng)大切且非接觸式的薄膜測量方法,膜厚儀器,當(dāng)薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)在測量系統(tǒng)范圍內(nèi)時(shí),系統(tǒng)能又快又輕松的測量。在用來測量薄膜厚度時(shí),有幾種常見的對光譜反射儀的誤解。比如: 1. 它只能測量薄膜厚度,且需要預(yù)先知道光學(xué)常數(shù)(折射率和消光系數(shù)); 2. 和橢偏儀相比它的精度較低; 3. 只有一到兩個(gè)厚度可同時(shí)測量! ∵@些誤解反映了光譜反射儀這種技術(shù)沒有被充分利用。其使用方法和數(shù)據(jù)分析有待進(jìn)一步的深入! 」庾V反射儀和橢偏儀都是間接的測量方法,都需要建立一個(gè)模型,通過調(diào)整物理參數(shù)(厚度和光學(xué)常數(shù)),使得模型與測量得到的反射率曲線達(dá)到擬合度,以此來反推計(jì)算薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)。橢偏儀考慮了光的極化,采用P波和S偏振反射光之間的相位差異,然而光譜反射儀不使用相位差,光學(xué)膜厚儀,非常薄的薄膜對相位差敏感度很高,但薄膜厚度增加相位差敏感度會減少。事實(shí)上,橢偏儀在下列情況下較光譜反射儀有明顯優(yōu)勢: 1. 待測薄膜很薄<10納米 2. 在測量非吸收薄膜時(shí),同步測量T、n(K=0) 3. 直接測量n,k值(主要用于未知材料的基片) 但是光譜反射儀在下列情況下具有明顯的優(yōu)勢: 1. 精度要求較高的厚度測量(除很薄的薄膜外)MProbe精度<0.01納米 2. 測量較厚的薄膜(>10微米)。Mprobe精度達(dá)到500微米 3. 更高的測量速度 Mprobe<1毫秒 4. 測量表面粗糙度 這兩種技術(shù)都可以測量復(fù)雜的多層薄膜,計(jì)算其厚度和材料的n、k值! ⊥ǔH藗兌际褂霉庾V反射儀,認(rèn)為它適合簡單的厚度測量:一至二層薄膜。下面是一些使用光譜反射儀證明其存在更復(fù)雜的應(yīng)用能力的例子:通常,測量poly-Si多晶硅和SiN(氮化硅)是兩個(gè)主要應(yīng)用,導(dǎo)致了橢偏儀和光譜反射儀在半導(dǎo)體工業(yè)領(lǐng)域里有著廣泛的應(yīng)用。以傳統(tǒng)的使用方法,顯然不適合這些應(yīng)用。因此,說明光譜反射儀的應(yīng)用是非常有意義的。事實(shí)上如果運(yùn)用得當(dāng),測量它們非常成功。現(xiàn)今越來越多的行業(yè)里都需要應(yīng)用膜厚測量儀器,這種儀器的應(yīng)用可以快速地檢測出物件的厚度,從而作出各種判決。當(dāng)然,這其中使用最廣泛的就要數(shù)零件制造商。在膜厚測量儀器里,膜厚儀器,根據(jù)它的工作原理不同,有著不同的分類,而這些分類各自的特點(diǎn)也是不同。
首先,膜厚儀廠商批發(fā),我們來介紹一種膜厚測量儀,那便是涂層測厚儀。之所以會有這樣的一種分類,膜厚儀,那與零件涂層有關(guān),它主要就是用于測量涂層厚度大小,從而確定涂層是否符合標(biāo)準(zhǔn)。它可以準(zhǔn)確無誤地測量出數(shù)值,而且測量的速度也是其它測厚無法比較。這樣的一種專業(yè)性測量涂層的儀器,應(yīng)用于其它方便便會顯示出它的不足之處。
接著便是第二種膜厚測量儀,紙張測厚儀。對于4mm以下的紙張,我們無法用普通的尺子或者是測量工具進(jìn)行測量。為了解決這個(gè)難題,就出現(xiàn)了紙張測厚儀,它的應(yīng)用目的就是能夠讓極薄的紙張?jiān)诮?jīng)過它的測量以后得出準(zhǔn)確的數(shù)值,確保紙張的均一性。像這一類的膜厚測量儀,干膜膜厚儀,反而是不能測量4mm以上的物件,若要執(zhí)意測量,其所得出的數(shù)值只會是不準(zhǔn)確。
最后,便是第三種膜厚測量儀,薄膜測量儀。薄膜測量儀的使用,主要的是針對于薄膜、薄片等一類的物件厚度的測量。它的研究最為深入,在技術(shù)上也是得到了大力支持,在現(xiàn)今的技術(shù)支持下,它可以進(jìn)行數(shù)值的輸出、任意位置置零等高級功能的運(yùn)行。薄膜測厚儀的使用雖然廣泛,而且技術(shù)也成熟,但要掌握其工作原理,還是有賴于每一個(gè)專業(yè)的操作人員。工作原理的掌握,對于工作人員熟練故障出現(xiàn)以及避免故障出現(xiàn)方法有極大的幫助。
東莞市嘉儀自動化設(shè)備科技有限公司:http://www.canneedauto.com/
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1 硬件:主機(jī)壹臺,含下列主要部件:
(1) X光管 (2) 半導(dǎo)體探測器
(3) 放大電路 (4) 高精度樣品移動平臺
(5) 高清晰攝像頭 (6) 高壓系統(tǒng)
(7) 上照、開放式樣品腔 (8)雙激光定位
(9) 玻璃屏蔽罩
2 軟件:天瑞X射線熒光光譜儀FpThick分析軟件V1.0
3 計(jì)算機(jī)、打印機(jī)各臺
計(jì)算機(jī)(品牌,P4,液晶顯示屏)、打印機(jī)(佳能,彩色噴墨打印機(jī))
4 資料:使用說明書(包括軟件操作說明書和硬件使用說明書)、出廠檢驗(yàn)合格證明、裝箱單、保修單及其它應(yīng)提供資料各份。
5 標(biāo)準(zhǔn)附件
準(zhǔn)直孔:0.1X1.0mm(已內(nèi)置于儀器中)
參數(shù)規(guī)格
1 分析元素范圍:K-U
2 同時(shí)可分析多達(dá)5層以上鍍層
3 分析厚度檢出限高達(dá)0.005μm
4 多次測量重復(fù)性高可達(dá)0.01μm
5 定位精度:0.1mm
5 測量時(shí)間:30s-300s
6 計(jì)數(shù)率:1300-8000cps
7 Z軸升降范圍:0-140mm
8 X/Y平臺可移動行程:50mm(W)×50mm(D)
性能特點(diǎn)
1 滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測試需求
2 φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測試點(diǎn)的需求
安裝要求:
1 環(huán)境溫度要求:15℃-30℃
2 環(huán)境相對濕度:<70%
3 工作電源:交流220±5V
4 周圍不能有強(qiáng)電磁干擾。
金屬鍍層膜厚儀是門針對鍍層厚度測量而精心設(shè)計(jì)的款新型測厚儀器。電鍍層膜厚儀主要應(yīng)用于:金屬鍍層(鍍鋅,鍍錫,鍍鎳,鍍銀,鍍金,鍍銠,鍍鈀)的厚度測量、電鍍液和鍍層含量的測定;黃金、鉑、銀等貴金屬和各種飾的含量檢測。

產(chǎn)品優(yōu)勢
1.精密的三維移動平臺 2.的樣品觀測系統(tǒng) 3.的圖像識別 4.輕松實(shí)現(xiàn)深槽樣品的檢測 5.四種微孔聚焦準(zhǔn)直器,自動切換 6.雙重保護(hù)措施,實(shí)現(xiàn)無縫防撞 7.采用大面積高分辨率探測器,降低檢出限,提高測試精度
自動智能控制方式,鍵式操作!開機(jī)自動自檢、復(fù)位; 開蓋自動退出樣品臺,升起Z軸測試平臺,方便放樣; 關(guān)蓋推進(jìn)樣品臺,下降Z軸測試平臺并自動完成對焦; 直接點(diǎn)擊景或局部景圖像選取測試點(diǎn); 點(diǎn)擊軟件界面測試按鈕,自動完成測試并顯示結(jié)果。
參數(shù)規(guī)格
分析元素范圍:硫(S)~鈾(U) 同時(shí)檢測元素:多24個(gè)元素,多達(dá)5層鍍層分析含量:般為2ppm到99.9% 金屬鍍層膜厚儀鍍層厚度:般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)SDD探測器:分辨率低至135eV的微孔準(zhǔn)直技術(shù):小孔徑達(dá)0.1mm,小光斑達(dá)0.1mm樣品觀察:配備景和局部兩個(gè)工業(yè)高清攝像頭 準(zhǔn)直器:0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與Ф0.3mm四種準(zhǔn)直器組合 儀器尺寸:690(W)x 575(D)x 660(H)mm樣品室尺寸:520(W)x 395(D)x150(H)mm樣品臺尺寸:393(W)x 258 (D)mmX/Y/Z平臺移動速度:額定速度200mm/s 高速度333.3mm/sX/Y/Z平臺重復(fù)定位精度:小于0.1um操作環(huán)境濕度:≤90%操作環(huán)境溫度:15℃~30℃
部分產(chǎn)品
x熒光鍍層測厚儀價(jià)格,鍍銀層無損測厚儀,x熒光鍍層測厚儀,金屬鍍層測厚儀,X熒光電鍍層測厚儀,鍍層膜厚測試儀,銅上鍍鎳金測厚儀,X熒光金屬膜厚測厚儀,產(chǎn)X射線鍍層測厚儀,xrf鍍層膜厚測試儀,X熒光鍍層膜厚儀,X射線鍍層膜厚儀,五金電鍍層測厚儀,x光鍍層測厚儀,鍍金層無損X射線測厚儀,led支架鍍銀層測厚儀,產(chǎn)鍍層測厚儀,X熒光鍍層測厚儀廠家,產(chǎn)X熒光鍍層測厚儀,x光鍍層測厚儀,X射線鍍層測厚儀價(jià)格,天瑞鍍層測厚儀,X熒光金屬膜厚測厚儀,XRF鍍層測厚儀,x熒光金屬測厚儀,無損金屬鍍層測厚儀,鍍金膜厚儀,電鍍層膜厚儀。
產(chǎn)品用途
金屬鍍層膜厚儀廣泛應(yīng)用于金屬鍍層的厚度測量、電鍍液和鍍層含量的測定電鍍、PCB、電子電器、氣配五金、端子、高壓開關(guān)、螺絲、衛(wèi)浴等行業(yè)。

