干燥箱/烘箱產(chǎn)品及廠家
高溫?zé)Y(jié)箱，500℃高溫烤箱廣泛應(yīng)用于電子、電機(jī)、通訊、電鍍、塑料、五金化工、食品、印刷、制藥、pc板、粉體、含浸、噴涂、玻璃、陶瓷、木器建材.可供生產(chǎn)廠家和科研單位做三氟乙烯、四氟乙烯、pe等壓縮成型制品的燒結(jié)。
更新時(shí)間:2025-06-12
hmds預(yù)處理系統(tǒng)(js-hmds90 )將hmds氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
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無(wú)塵無(wú)氧烤箱，智能無(wú)塵無(wú)氧烤箱應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).智能無(wú)氧烤箱可以使用tcp / ip（使用hsms標(biāo)準(zhǔn)，semi e37）或基于rs-232的協(xié)議與支持gem的主機(jī)進(jìn)行通信。通常這兩種協(xié)議都受支持。
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充氮潔凈烘箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。烘箱整機(jī)為不銹鋼結(jié)構(gòu)，全部采用無(wú)塵材料，箱內(nèi)持續(xù)充氮，使烘箱工作室內(nèi)處于潔凈狀態(tài)。工作室內(nèi)溫度由溫控儀自動(dòng)控制，并有自動(dòng)恒溫及時(shí)間控制裝置，并附設(shè)有超溫自動(dòng)停電及報(bào)警電路，控制可靠，使用安全。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。
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高溫充氮潔凈烘箱，無(wú)塵充氮烤箱是一種耐高溫，可以達(dá)到和工作場(chǎng)所同樣的潔凈等級(jí)的烘箱。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。
更新時(shí)間:2025-06-12
高溫百無(wú)氧烘箱，500度厭氧潔凈烤箱用pi、bcb 膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、無(wú)塵烘干的特殊工藝要求
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class1000烤箱，千級(jí)無(wú)塵烤箱用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。 應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升降溫環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求。
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氮?dú)夂嫦，四箱氮(dú)饪鞠洌讳P鋼充氮烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
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乙烯基三甲氧基硅烷涂膠機(jī) vtms蒸鍍機(jī) 硅烷偶聯(lián)劑氣相沉積系統(tǒng)在材料進(jìn)行表面改性，形成防水保護(hù)層，主要用于半導(dǎo)體、光電、生物新材料等表面處理工藝、機(jī)械乳化劑、橡膠粘結(jié)劑，化工油墨分散劑等用途。
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hmds涂膠烤箱，mes接口hmds涂布機(jī)的主要作用是對(duì)晶圓做表面處理，以增加光阻在晶圓表面的附著力。當(dāng)晶圓送到黃光區(qū)時(shí)，表面可能有含水層，高溫烘烤后去除水氣，同時(shí)經(jīng)過(guò)hmds制程改變晶圓表面從極性到非極性，將晶圓表面的表面能被調(diào)整到與光阻表面相當(dāng)?shù)某潭，從而使光阻可以很好的附著在晶圓表面。
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百級(jí)潔凈烘箱，充氮潔凈烘箱是一種用于對(duì)于生產(chǎn)過(guò)程中用于產(chǎn)品對(duì)潔凈度高要求的加熱烘烤設(shè)備。本產(chǎn)品具有安全性好，潔凈度高,節(jié)能效果優(yōu)，保溫性佳，溫度均勻性好。大多應(yīng)用于烘烤光學(xué)、光電、光纖,精密電子及醫(yī)藥器材等欲烘烤物品的烘干或溫升處理等。
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真空熱風(fēng)烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質(zhì)固化，lcp材料熱處理、鍵合材料預(yù)處理，fowlp扇出封裝，ito膜/鋁/銅退火，pbo膠固化等特殊工藝。
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無(wú)氧化烤箱，高溫?zé)o氧固化爐利用充氮?dú)馓峁o(wú)氧化烘烤空間， 確保產(chǎn)品不氧化。適用于ic封裝、晶圓烘烤、pi固化、bcb膠固化、ito模具退火、鍍膜制程等半導(dǎo)體行業(yè)，電子行業(yè)及各種產(chǎn)業(yè)應(yīng)用。
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軌道式烘箱，帶推車(chē)烘箱定做采用智能溫控儀表，操作方便；采用推車(chē)加導(dǎo)軌進(jìn)出方式，方便超重物品進(jìn)出烘箱；配有聲、光超溫報(bào)警及保護(hù)裝置；
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箱式電阻爐，高溫馬弗爐為周期作業(yè)式電爐，可供工礦企業(yè)、科研等單位實(shí)驗(yàn)室作化學(xué)分析、物理測(cè)定和一般小型鋼件熱處理時(shí)加熱之用。
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自然通風(fēng)老化箱，自然換氣式老化試驗(yàn)機(jī)用于電線、電纜、塑料、橡膠等行業(yè)作熱老化試驗(yàn)、熱延伸試驗(yàn)、球壓試驗(yàn)等，也可用于工礦企業(yè)、科研單位、大專院校等實(shí)驗(yàn)室作烘焙、高溫試驗(yàn),符合gb/t 2951電纜和光纜絕緣和護(hù)套材料通用試驗(yàn)方法。
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潔凈無(wú)氧烘箱，氮?dú)鉄o(wú)氧 烘箱聚酰亞胺作為鈍化層和緩沖保護(hù)層在微電子工業(yè)上應(yīng)用非常廣泛。pi 涂層可有效地阻滯電子遷移、防止腐蝕。pi 層保護(hù)的元器件具有很低的漏電流，可增加器件的機(jī)械性能，防止化學(xué)腐蝕，也可有效地增加元器件的抗潮濕能力。pi 薄膜具有緩沖功能，可有效地降低由于熱應(yīng)力引起的電路崩裂斷路，減少元器件在后續(xù)的加工、封裝和后處理過(guò)程中的損傷；
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hmds蒸鍍真空烤箱，芯片hmds蒸鍍烤箱消除芯片表面的微量水份，防止空氣中的水汽再次吸附于晶面，增加光阻劑(尤其是正光阻)對(duì)于晶面的附著能力,進(jìn)而減少在而后之顯影過(guò)程中產(chǎn)生光阻掀起,或是在蝕刻時(shí)產(chǎn)了”undercutting”的現(xiàn)象。
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六箱體氮?dú)夂嫦，多倉(cāng)式潔凈烘箱于光刻膠固化、堅(jiān)膜烘烤、治具干燥、芯片封裝、碳化硅襯底生產(chǎn)、外延片烘烤、墨點(diǎn)烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽(yáng)能
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真空無(wú)氧烘箱，無(wú)氧化真空烤箱將高純度氮?dú)獬淙肟鞠鋬?nèi)部，從而置換腔內(nèi)空氣降低氧濃度，來(lái)防止部分物料在高溫環(huán)境下加速氧化的現(xiàn)象。烤箱抽取真空后，充入氮?dú)猓俪槿≌婵，多次循環(huán)后可以確保烤箱的工作室處于無(wú)氧的狀態(tài)，避免活性較強(qiáng)的物料在高溫有氧的環(huán)境下被氧化而損壞。
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氮?dú)庹婵諢犸L(fēng)烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱可達(dá)低氧濃度，厭氧烘烤、低真空熱處理烘烤。適用于bcb固化、pi聚酰亞胺固化、lcp纖維熱處理、光刻膠固化？捎糜诎雽(dǎo)體、新材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè)，適用于工廠、高等院校、科研等場(chǎng)所。
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抗粘劑涂膠機(jī)，抗粘劑真空預(yù)處理系統(tǒng)給模板制備抗粘層，制備抗粘層的方法以及模板的結(jié)構(gòu)也會(huì)影響到終的抗粘效果。當(dāng)模板結(jié)構(gòu)在100nm以下時(shí)，在液相中制備的抗粘層就不能完全起到抗粘的作用。這是因?yàn)樵谀０宓慕锹渲袝?huì)滯留一部分空氣而導(dǎo)致抗粘材料無(wú)法到達(dá)這些位置然而，若采用氣相的方法則不存在這樣的問(wèn)題。
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不銹鋼無(wú)塵烤箱，雙層無(wú)塵烘箱應(yīng)用于目關(guān)鍵的半導(dǎo)體電子行業(yè)（如硅片干燥，堅(jiān)膜烘烤，裝片機(jī)后道烘烤，塑封后烘烤，治具烘烤等），另外，雙層無(wú)塵烘箱還在led制造行業(yè)中用于烘烤玻璃基板、無(wú)機(jī)材料行業(yè)中用于材料高精度工序。
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潔凈氮?dú)鉄犸L(fēng)烘箱，精密充氮是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。烘箱整機(jī)為不銹鋼結(jié)構(gòu)，全部采用無(wú)塵材料，箱內(nèi)持續(xù)充氮，使烘箱工作室內(nèi)處于潔凈狀態(tài)。工作室內(nèi)溫度由溫控儀自動(dòng)控制，并有自動(dòng)恒溫及時(shí)間控制裝置，并附設(shè)有超溫自動(dòng)斷開(kāi)加熱及報(bào)警電路，控制可靠，使用安全。
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真空固化烤箱，防氧化真空系統(tǒng)用于鍵合前鍵合材料的真空處理 、ito膜退火，pr膠排膠固化等工藝。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子產(chǎn)品、醫(yī)療衛(wèi)生等行業(yè)，適用于工廠、高等院校、科研等場(chǎng)所。
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js-hmds90烘箱采用真空蒸鍍的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高溫條件下，達(dá)到真空狀態(tài)后開(kāi)始涂布工藝，涂布完成后烘箱內(nèi)部充入n2，達(dá)到常壓后方可開(kāi)門(mén)。
更新時(shí)間:2025-06-12
晶圓精密循環(huán)烤箱，硅片循環(huán)烘箱是一種高功能、高信賴度烤箱，結(jié)構(gòu)、材質(zhì)強(qiáng)度、保溫、循環(huán)風(fēng)道等均設(shè)計(jì)精良，且外形美觀、操作方便？諝庋h(huán)系統(tǒng)為水平式循環(huán)送風(fēng)，風(fēng)源由循環(huán)馬達(dá)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)電熱器，將熱風(fēng)由風(fēng)道送至烤箱內(nèi)部，且將使用后空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán)加熱，如此可得到較佳的溫度均勻性，均勻度可達(dá)±1.5％，當(dāng)門(mén)開(kāi)、關(guān)動(dòng)作引起擾動(dòng)時(shí)，可借此送風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)迅速回復(fù)操作狀態(tài)溫度值。
更新時(shí)間:2025-06-12
hmds烘箱真空泵，hmds系統(tǒng)用油泵 在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑hmds(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將hmds涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2025-06-12
hmds涂膠機(jī)，hmds涂膠烤箱處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。效率高,液態(tài)涂布是單片操作，而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片。更加環(huán)保和安全，hmds是有毒化學(xué)藥品，人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整個(gè)過(guò)程是在密閉的環(huán)境下完成的，所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽
更新時(shí)間:2025-06-12
黃光區(qū)電熱鼓風(fēng)烤箱，非標(biāo)鼓風(fēng)干燥箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預(yù)處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-12
上海百潔凈烘箱用于精密電子元件、高溫烘烤、堅(jiān)膜烘烤、半導(dǎo)體元件封裝、治具干燥、銀膠固化、晶圓退火、芯片高溫測(cè)試、
更新時(shí)間:2025-06-12
電熱鼓風(fēng)干燥箱采用鏡面不銹鋼內(nèi)膽，最新p.i.d模糊邏輯處理控制器，獨(dú)立限溫報(bào)警系統(tǒng)，箱體左側(cè)有一直徑50mm測(cè)試孔，便于實(shí)驗(yàn)操作與測(cè)量溫度
更新時(shí)間:2025-06-12
熱風(fēng)真空烘箱，真空+鼓風(fēng)一體烘箱主要用于bcb固化、pi固化、其他光刻膠固化、lcp熱處理等工藝
更新時(shí)間:2025-06-12
鈮酸鋰無(wú)氧烘箱用于半導(dǎo)體晶片、半導(dǎo)體封裝和mems器件的批量生產(chǎn)。主要用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質(zhì)固化，lcp材料熱處理、鍵合材料預(yù)處理，fowlp扇出封裝，ito膜/鋁/銅退火，pbo膠固化等特殊工藝。
更新時(shí)間:2025-06-12
精密循環(huán)風(fēng)烤箱，半導(dǎo)體硬烘烤箱適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。 也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其它高溫試驗(yàn).
更新時(shí)間:2025-06-12
oap烘箱，oap處理烘箱處理主要是為了改善親水性表面，變?yōu)槭杷，從而達(dá)到增加光刻膠粘附性的作用。
更新時(shí)間:2025-06-12
bcb作為一類(lèi)高性能聚合物，以它特有的性質(zhì)，將會(huì)被越來(lái)越多地使用。bcb是具有優(yōu)良的熱穩(wěn)定性、化學(xué)穩(wěn)定性、電絕緣性和機(jī)械強(qiáng)度的高性能材料。在現(xiàn)代高技術(shù)域有非常重要的應(yīng)用。例如在微電子制造中，用作各類(lèi)器件鈍化防護(hù)和層間介電等。
更新時(shí)間:2025-06-12
百級(jí)無(wú)塵烤箱，100級(jí)潔凈烤箱用于ic可靠性試驗(yàn)，ic封裝，光刻膠固化，電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-12
hmds 預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds 處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
更新時(shí)間:2025-06-12
電線電纜專用老化箱，gb/t 2951老化試驗(yàn)機(jī)主要適用于電線、電纜、塑料、橡膠等行業(yè)作自然通風(fēng)熱老化試驗(yàn)，也可用于工礦企業(yè)、科研單位、大專院校等實(shí)驗(yàn)室作烘焙、高溫試驗(yàn),符合gb/t 2951.12電纜和光纜絕緣和護(hù)套材料通用試驗(yàn)方法。
更新時(shí)間:2025-06-12
hmds真空烘箱采用微電腦智能控溫儀，具有設(shè)定，測(cè)定溫度雙數(shù)字顯示和pid自整定功能，控溫精度高。可根據(jù)不同試驗(yàn)條件改變?cè)O(shè)定程序，溫度，真空度及試驗(yàn)時(shí)間。
更新時(shí)間:2025-06-12
無(wú)氧烘箱，無(wú)氧烤箱氧濃度儀應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb、lcp固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升降溫環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具煺火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求
更新時(shí)間:2025-06-12
半導(dǎo)體充氮烘箱，氮?dú)饪灸z烘箱是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。烘箱內(nèi)部整機(jī)為不銹鋼結(jié)構(gòu)，全部采用無(wú)塵材料，箱內(nèi)持續(xù)充氮，使烘箱工作室內(nèi)處于潔凈狀態(tài)
更新時(shí)間:2025-06-12
非標(biāo)充氮潔凈烘箱，充氮烤箱定做是一種提供高溫凈化環(huán)境的特殊潔凈烘干設(shè)備。烘箱整機(jī)為不銹鋼結(jié)構(gòu)，全部采用無(wú)塵材料，箱內(nèi)持續(xù)充氮，使烘箱工作室內(nèi)處于潔凈狀態(tài)。工作室內(nèi)溫度由溫控儀自動(dòng)控制，并有自動(dòng)恒溫及時(shí)間控制裝置，并附設(shè)有超溫自動(dòng)停電及報(bào)警電路，控制可靠，使用安全。適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。
更新時(shí)間:2025-06-12
真空熱風(fēng)烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質(zhì)固化，lcp材料熱處理、鍵合材料預(yù)處理，fowlp扇出封裝，ito膜/鋁/銅退火，pbo膠固化等特殊工藝。
更新時(shí)間:2025-06-12
隧道烘箱，流水線烘箱作用是將需要烘烤的產(chǎn)品在流水線上連續(xù)性進(jìn)行烘烤，以達(dá)到提高生產(chǎn)效率。
更新時(shí)間:2025-06-12
secs/gem通訊hmds鍍膜機(jī)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料預(yù)處理及相關(guān)行業(yè)。
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