干燥箱/烘箱產(chǎn)品及廠家
三箱式百無(wú)塵烤箱，電子百潔凈烘箱采用彩色觸摸屏溫度控制器，內(nèi)置曲線記錄、查詢 pid自整定、高溫上限報(bào)警、 運(yùn)行方式：定值、程式 語(yǔ)言：中、英文
更新時(shí)間:2025-06-16
芯片烘箱，芯片固化烤箱是指封裝環(huán)氧的固化，一般環(huán)氧固化條件在135℃，1小時(shí)。模壓封裝一般在150℃，4分鐘。后固化是為了讓環(huán)氧充分固化，同時(shí)對(duì)led進(jìn)行熱老化。后固化對(duì)于提高環(huán)氧與支架(pcb)的粘接強(qiáng)度非常重要，一般條件為120℃，4小時(shí)。無(wú)氧化烘箱在工業(yè)中的用途：芯片固化，led芯片燒結(jié)，ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……
更新時(shí)間:2025-06-16
無(wú)氧烘箱，光刻膠固化烘箱用于精密電子元件、pi膠固化烘烤、bcb固化，光刻膠固化、lcp液晶聚合物熱處理、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，
更新時(shí)間:2025-06-16
無(wú)氧高溫烘箱，百級(jí)無(wú)氧烘箱主要應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求。應(yīng)用于精密電子元件、pi、bcb膠高溫固化烘烤、光刻膠固化、電子陶瓷材料無(wú)塵烘干的特殊工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、led、pcb板、ito玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).
更新時(shí)間:2025-06-16
加工半導(dǎo)體用烤箱， secs / gem無(wú)塵烤箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后固化、堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-16
隧道烘箱，流水線烘箱作用是將需要烘烤的產(chǎn)品在流水線上連續(xù)性進(jìn)行烘烤，以達(dá)到提高生產(chǎn)效率。
更新時(shí)間:2025-06-16
無(wú)塵烘箱，不銹鋼無(wú)塵烤箱用于ic生產(chǎn)中烘、后烘烤、堅(jiān)膜、裝片機(jī)后端烘烤、塑封封裝烘烤、光刻膠固化、治具干燥、薄膜烘烤、硅片干燥等工藝。
更新時(shí)間:2025-06-16
抽屜烘箱，抽拉層式烘箱用于半導(dǎo)體、電子行業(yè)、軌道交通、汽車(chē)零部件、航空航天，工礦企業(yè)、大院校、生物制藥、科研、醫(yī)療單位及各類(lèi)實(shí)驗(yàn)室等作非易燃易爆物品及非揮發(fā)性物品的干燥、烘培、熔臘、滅菌之用。
更新時(shí)間:2025-06-16
hmds蒸鍍烤箱，可程式hmds機(jī)臺(tái)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料預(yù)處理及相關(guān)行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-06-16
真空熱風(fēng)烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質(zhì)固化，lcp材料熱處理、鍵合材料預(yù)處理，fowlp扇出封裝，ito膜/鋁/銅退火，pbo膠固化等特殊工藝。
更新時(shí)間:2025-06-16
烘箱，精密烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預(yù)處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-16
線性恒溫恒濕試驗(yàn)機(jī)，曲線溫濕度試驗(yàn)箱試驗(yàn)各種材料耐熱、耐寒、耐干、耐濕性能。適合電子、電器、通訊、儀表、車(chē)輛、塑膠制品、金屬、食品、化學(xué)、建材、醫(yī)療、航天等制品檢測(cè)質(zhì)量之用。
更新時(shí)間:2025-06-16
實(shí)驗(yàn)室hmds專用烘箱 小型hmds處理烤箱解決光刻膠附著力不足問(wèn)題,同時(shí)增強(qiáng)光刻圖形的完整性.
更新時(shí)間:2025-06-16
熱風(fēng)真空烘箱，真空+鼓風(fēng)一體烘箱主要用于bcb固化、pi固化、其他光刻膠固化、lcp熱處理等工藝
更新時(shí)間:2025-06-16
hmds蒸鍍系統(tǒng)，無(wú)塵hmds烤箱通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料預(yù)處理及相關(guān)行業(yè)。
更新時(shí)間:2025-06-16
固化烤箱，pi、bcb膠固化烤箱用于pi、bcb膠高溫固化烘烤。整個(gè)箱體結(jié)構(gòu)分為：膛體組件、箱架組件和熱風(fēng)組件三個(gè)部分，膛體腔，內(nèi)表面全鏡面設(shè)計(jì)，風(fēng)道由左、右、后導(dǎo)風(fēng)板與箱體內(nèi)壁組合而成，膛體頂部有排風(fēng)管道。
更新時(shí)間:2025-06-16
鈮酸鋰無(wú)氧烘箱用于半導(dǎo)體晶片、半導(dǎo)體封裝和mems器件的批量生產(chǎn)。主要用于聚酰亞胺pi膠、cpi膠、bcb膠固化、低k電介質(zhì)固化，lcp材料熱處理、鍵合材料預(yù)處理，fowlp扇出封裝，ito膜/鋁/銅退火，pbo膠固化等特殊工藝。
更新時(shí)間:2025-06-16
無(wú)塵烤箱配備hepa過(guò)濾器，以保持爐腔無(wú)顆粒。 hepa過(guò)濾器（高效微粒捕獲）現(xiàn)在是電子和平板顯示器潔凈室組裝的主要過(guò)濾系統(tǒng)，或任何需要最大程度減少或去除亞微米微粒的應(yīng)用。 hepa過(guò)濾器具有隨機(jī)定位的微玻璃纖維的深床，其中與平均纖維直徑和自由路徑橫截面的有效孔相比，總床深度（過(guò)濾器的厚度）非常大。
更新時(shí)間:2025-06-16
class1000烤箱，千級(jí)無(wú)塵烤箱用于電子液晶顯示、lcd、cmos、ic、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。 應(yīng)用于精密電子元件、光刻膠固化、電子陶瓷材料烘干的特殊工藝要求，模擬線性升降溫環(huán)境，特別適合半導(dǎo)體制造、cob封裝、醫(yī)療衛(wèi)生、柔性線路板印刷、精密模具退火等行業(yè)的無(wú)氧化干燥烘烤工藝要求。
更新時(shí)間:2025-06-16
高溫厭氧烘箱，厭氧固化烤箱 厭氧烤箱將封閉內(nèi)腔持續(xù)加熱到預(yù)設(shè)溫度后，進(jìn)入保溫加熱控制狀態(tài)，在保溫加熱控制狀態(tài)中采用間斷式加熱方式，使得封閉內(nèi)腔中的溫度能夠保持穩(wěn)定的溫度，電子元件在均勻的溫度下進(jìn)行固化，提高電子元件的質(zhì)量；也可以滿足大容量烤箱的生產(chǎn)要求，提高了生產(chǎn)效率。
更新時(shí)間:2025-06-16
無(wú)塵烘箱，100級(jí)潔凈烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-16
hmds烘箱真空泵，hmds系統(tǒng)用油泵 在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑hmds(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將hmds涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2025-06-16
紫外固化烘箱 真空紫外烘箱 uv固化真空烤箱主要應(yīng)用于uv膠水、uv 油墨、uv光油、uv 油漆、uv 涂料、薄膜等 uv 光感材料的固化，3d打印固化，新型材料改性、高分子化學(xué)、半導(dǎo)體材料光固化，以及高等院校和科研機(jī)構(gòu)的實(shí)驗(yàn)室研究。
更新時(shí)間:2025-06-16
hmds蒸鍍真空烤箱，芯片hmds蒸鍍烤箱消除芯片表面的微量水份，防止空氣中的水汽再次吸附于晶面，增加光阻劑(尤其是正光阻)對(duì)于晶面的附著能力,進(jìn)而減少在而后之顯影過(guò)程中產(chǎn)生光阻掀起,或是在蝕刻時(shí)產(chǎn)了”undercutting”的現(xiàn)象。
更新時(shí)間:2025-06-16
電熱鼓風(fēng)烤箱，小型干燥烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預(yù)處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-16
工業(yè)烘箱，工業(yè)無(wú)塵烘箱用于半導(dǎo)體制造中預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤、ic封裝、治具烘烤、光刻膠固化等；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。
更新時(shí)間:2025-06-16
晶圓潔凈烘箱，光刻硬烘烤箱 潔凈度100級(jí)的潔凈熱處理hepa過(guò)濾器與前出風(fēng)型水平層流循環(huán)方式實(shí)現(xiàn)并保證箱內(nèi)的溫度分布的均勻性與100級(jí)潔凈度。最小限度控制風(fēng)速距離。
更新時(shí)間:2025-06-16
百潔凈烤箱也稱作無(wú)塵烘箱用于半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤、工裝夾具烘烤；也適用于電子液晶顯示、lcd、cmos、is、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-06-16
箱體結(jié)構(gòu): 內(nèi)箱采用sus304/316l不銹鋼制作,以全周氬弧焊無(wú)縫處理; 外箱采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼或冷軋板靜電噴塑處理; 外箱保溫材質(zhì)用高超細(xì)陶瓷纖維保溫,六面保溫?cái)酂?達(dá)到降低機(jī)臺(tái)表面溫度的目的。
更新時(shí)間:2025-06-16
hmds預(yù)處理系統(tǒng)(js-hmds90 )將hmds氣相沉積至半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后，經(jīng)系統(tǒng)加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷，其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
更新時(shí)間:2025-06-16
hmds烘箱、hmds預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料。
更新時(shí)間:2025-06-16