鍍膜機產(chǎn)品及廠家

法國Plassys微波等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)
法國plassys微波等離子體化學氣相沉積系統(tǒng) ssdr 150 ，門用于合成 cvd 金剛石薄膜，能夠制備高純單晶(需高純氣源）、厚單晶、大單晶、多晶薄膜、光學窗口。ssdr150 不斷優(yōu)化的微波及等離子體設(shè)計，是一款可靠的、穩(wěn)定的、長時間運行的金剛石薄膜生長系統(tǒng)，能夠完美地適用于高？蒲泻推髽I(yè)生產(chǎn)。
更新時間:2025-07-26
英國HHV桌上型濺射鍍膜儀
英國hhv桌上型濺射鍍膜儀bt150和bt300,新系列小型桌上系統(tǒng)，觸摸屏顯示控制，適合于sem及tem電鏡樣品制備及常規(guī)科研的全功能系統(tǒng)。
更新時間:2025-07-26
日立Hitachi 離子濺射儀
日立hitachi 離子濺射儀 mc1000,采用lcd觸摸屏，可以更加簡便地設(shè)定加工條件,可處理較厚或較大的樣品(選配件),記憶功能可存儲常用加工條件.
更新時間:2025-07-26
美國Neocera脈沖激光沉積系統(tǒng)及脈沖電子束沉積系統(tǒng)
美國neocera pld 脈沖激光沉積系統(tǒng) p180 , 一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法. ped 脈沖電子束沉積系統(tǒng) ped-180,是高能脈沖 (100ns) 電子束 ( 約 1000 a,15 kev) 在靶材上穿透將近 1 um，使靶材快速蒸發(fā)形成等離子體。對靶材的非平衡提。疲┦沟入x子體的組成與靶材的化學計量組成一致。在最佳條件下，靶材的化學計量與沉積
更新時間:2025-07-26
大風量風機 2XB730-H37風帕克風機
大風量風機 2xb730-h37風帕克風機 4kw 380v 風量每小時420立方 -260/310mpar高壓、大風量、低噪音、輕量化 采用鋁合金材質(zhì)，大幅降低重量，達到輕量化的目的。 馬達為i.e.c設(shè)計（1hp以上），全閉外扇形鋁框馬達，特殊軸設(shè)計，可適合長時間使用。 特殊葉片設(shè)計，壓力大、風量大、低噪音、壽命長
更新時間:2025-07-26
貝富克風機2XB730-H26 貝富克高壓風機
貝富克風機2hb730-ah26 貝富克高壓風機，大風量 高壓力。風量420立方壓力-260/310mpar高壓、大風量、低噪音、輕量化 采用鋁合金材質(zhì)，大幅降低重量，達到輕量化的目的。 馬達為i.e.c設(shè)計（1hp以上），全閉外扇形鋁框馬達，特殊軸設(shè)計，可適合長時間使用。 特殊葉片設(shè)計，壓力大、風量大、低噪音、壽命長
更新時間:2025-07-26
除濕設(shè)備風機 2XB910-H07貝富克風機
除濕設(shè)備風機 2xb910-h07貝富克風機 高壓力大風量 適用于切紙機、卷煙濾嘴成型機、電鍍槽液攪拌、霧化干燥機、水處理曝氣、絲網(wǎng)印刷機、照相制版機、注塑機自動上料烘干機、液體灌裝機、電焊設(shè)備、電影機械、紙張運送、干洗衣服、清洗、空氣除塵、干瓶、氣體傳送、送料、收集等方面。
更新時間:2025-07-26
全自動熱蒸發(fā)鍍碳儀蒸碳儀噴碳儀鍍膜儀 納米碳膜實驗室儀器
全自動熱蒸發(fā)鍍碳儀蒸碳儀噴碳儀鍍膜儀 納米碳膜實驗室儀器優(yōu)勢看得見：1. 7英寸彩色觸摸屏，全數(shù)字顯示，直觀清晰；2. 具備脈沖加熱和連續(xù)加熱兩種工作模式，適用各種不同的樣品；3. 自動檢測每根碳繩的狀態(tài)，并在鍍膜過程中自動切換；4. 每根碳繩使用會進行自動除氣，確保碳膜的純凈度；5. 操作非常簡單，多只需設(shè)置兩個參數(shù)即可；
更新時間:2025-07-25
DW-3A 真空鍍膜機配套冷水機
                    真空鍍膜機配套冷水機 一：產(chǎn)品系列型號：dw-a系
更新時間:2025-07-25
實驗室流延薄膜機 單螺桿擠出機 小型流延薄膜機
實驗室流延薄膜機 單螺桿擠出機 小型流延薄膜機型號：aod-xh-432 設(shè)備規(guī)數(shù) 型號aod-xh-25 單螺桿擠出機 機架采用型鋼焊接而成,并經(jīng)回應(yīng)力處理,有較高的鋼性,變形小。料筒及螺桿 標配：3d混煉頭帶分散性單螺桿料筒及螺桿
更新時間:2025-07-24
小型蒸發(fā)鍍膜儀的產(chǎn)品研發(fā)#技術(shù)新聞
小型蒸發(fā)鍍膜儀，實驗室氣相沉積設(shè)備用于真空蒸發(fā)鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜，主要用于蒸鍍電及有機半導(dǎo)體材料的物理化學性能研究實驗研究 。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發(fā)。
更新時間:2025-07-24
脫模劑蒸鍍機，脫模劑真空鍍膜機
應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電、電子行業(yè)，硅片、砂紙或石英硬模板等材料。
更新時間:2025-07-23
小型蒸發(fā)鍍膜儀，實驗室氣相沉積設(shè)備
小型蒸發(fā)鍍膜儀，實驗室氣相沉積設(shè)備用于真空蒸發(fā)鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬 膜，主要用于蒸鍍電及有機半導(dǎo)體材料的物理化學性能研究實驗研究 。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發(fā)。
更新時間:2025-07-23
極域真空鍍膜系統(tǒng)上海喆圖
極域真空鍍膜系統(tǒng)以“真空性能”與“全域工藝覆蓋”為內(nèi)核，成為半導(dǎo)體、光學、新能源等制造領(lǐng)域的標桿設(shè)備，助力客戶突破鍍膜技術(shù)瓶頸，實現(xiàn)“高精度、高效率、高回報”的智造升級。
更新時間:2025-07-21
SC-DP-I 桌面型提拉鍍膜機
sc-dp-i型桌面型提拉鍍膜機 性能特點：· 采用 4.3 寸彩色觸摸屏、bamboo 觸控筆，圖形化界面操作方便·&n
更新時間:2025-07-17
浸涂機
浸涂機nadetech nd-dc是一種完全自動化的單元，用于通過浸涂法制造薄膜。其設(shè)計和可編程軟件允許以高精度和可重復(fù)性控制和自動化每個沉積參數(shù)。nd-dc用于通過浸涂技術(shù)獲得具有一層或多層的納米涂層，例如溶膠-凝膠，聚合物層，自組裝單層膜和各種生物膜。
更新時間:2025-07-17
紗線捻度機
用于測定棉、毛、絲、麻、化纖等紗線的捻度。性能符合gb/2543.1和gb/t2543.2的規(guī)定。
更新時間:2025-07-16
六工位旋轉(zhuǎn)提拉鍍膜機
xf801-150mm 六工位旋轉(zhuǎn)提拉鍍膜機浸漬提拉過程中按配方任意間隔旋轉(zhuǎn)
更新時間:2025-07-16
桌面型提拉鍍膜機
運行平穩(wěn)無抖動，液面無振動，可保證設(shè)備的穩(wěn)定性以及成膜的均勻性。 · 自主研發(fā)的程序控制系統(tǒng)，簡潔明了、操作方便。
更新時間:2025-07-16
基本型提拉鍍膜機
jc503-eb100提拉鍍膜機是一款基本型提拉鍍膜機，可自動完成在鍍膜溶液中多次鍍膜之需求，重復(fù)鍍膜次數(shù)可達999次。所有運行參數(shù)如運行速度，提拉/浸漬高度，浸漬時間，間隔時間，重復(fù)鍍膜次數(shù)等均可在觸屏上方便設(shè)置。
更新時間:2025-07-16
碾米機
本產(chǎn)品是根據(jù)國標gb/t21719-2008《稻整精米率檢驗法》*新研制，是制定國家稻谷標準中整精米率數(shù)據(jù)的*指定儀器。
更新時間:2025-07-16
浸漬提拉鍍膜機
xf803-931浸漬提拉鍍膜機是適用于溶膠-凝膠法（sol--gel法，簡稱sg法）制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器。核心部件采用進口配件，精準控制提拉速度，多次重復(fù)鍍膜無位置偏差。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、循環(huán)鍍膜次數(shù)、下降速度、停留時間均可以通過程序精確控制。適用于玻璃、si（100）、si（111）、藍寶石（al2o3）、瓷片以及樹脂基板等常用基板。
更新時間:2025-07-16
六源有機無機聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
六源有機無機聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設(shè)備適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作。opv系列真空蒸發(fā)鍍膜與手套箱聯(lián)合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所及實驗室，將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于glove box無水、無氧、無塵的超純環(huán)境中，pvd與glove box硬件無縫對接，操控融合一體，廣泛應(yīng)用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、oled等研究領(lǐng)域。
更新時間:2025-07-13
支持云端圖像存儲，可遠程控制修改參數(shù) 野生動物調(diào)研多功能觸發(fā)相機 歐尼卡源頭廠家定制
歐尼卡onick am-38帶彩信版野生動物紅外監(jiān)測相機支持3000萬像素高清拍照，4k高清視頻拍攝。儀器啟動反應(yīng)快，成像清晰，色彩真實。大可支持256gb sd存儲卡，兼容各種品牌？纱钶d我司自主研發(fā)的云平臺圖像處理系統(tǒng)（軟著登記號：2022sr0370995），對抓拍到的圖片及視頻進行識別與分析，還可搭配手機app遠程控制相機（軟著登記號：2022sr0370994），遠程控制修改參數(shù)，
更新時間:2025-07-11
德國徠卡高真空鍍膜機 Leica EM ACE600
leica em ace600是優(yōu)良的多用途高真空薄膜沉積系統(tǒng)，設(shè)計來根據(jù)您的fe-sem和tem應(yīng)用的需要生產(chǎn)非常薄的，細粒度的和導(dǎo)電的金屬和碳涂層，用于高分辨率分析。
更新時間:2025-07-09
EMS150 R離子濺射鍍膜儀
新一代ems 150r鍍膜儀(真空鍍膜儀/噴碳儀/蒸鍍儀）采用最新技術(shù)研制而成，彩色觸摸液晶屏，快速的參數(shù)輸入，數(shù)種碳絲匹配，友好的用戶界面，帶給你不一般的操作感受！
更新時間:2025-06-26
EMS150 T離子濺射鍍膜儀
ms150 t離子濺射鍍膜儀的機殼是整體成型的，結(jié)構(gòu)堅固耐用，配有氣冷的70l/s的渦輪分子泵，自動進氣控制保證了濺射期間最佳的真空水平，真空腔室直徑為165mm并帶有防爆裝置。ems150t具有“真空閉鎖”功能，可在設(shè)備不工作時維持腔室的真空度，從而保證高真空的性能。
更新時間:2025-06-26
上海伯東霍爾離子源 eH 2000,霍爾源,真空鍍膜離子源
上海伯東代理美國原裝進口 kri 霍爾離子源 eh 2000 是一款更強大的版本, 帶有水冷方式, 他具備 eh 1000 所有的性能, 低成本設(shè)計提供高離子電流, 特別適合大中型真空系統(tǒng). 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
更新時間:2025-06-24
上海伯東射頻離子源 RFICP 40,高能量射頻源,真空鍍膜離子源
上海伯東代理美國原裝進口 kri 射頻離子源 rficp 40 : 目 kri 射頻離子源 rficp 系列尺寸小, 低成本高效離子源. 適用于集成在小型的真空腔體內(nèi). 離子源 rficp 40 設(shè)計采用創(chuàng)新的柵技術(shù)用于研發(fā)和開發(fā)應(yīng)用. 離子源 rficp 40 無需電離燈絲設(shè)計, 適用于通氣氣體是活性氣體時的工業(yè)應(yīng)用. 標準配置下 rficp 40 離子能量范圍 100 至 1200ev,
更新時間:2025-06-24
上海伯東霍爾離子源 eH 400,真空鍍膜離子源
上海伯東代理美國原裝進口 kri 霍爾離子源 eh 400 低成本設(shè)計提供高離子電流, 霍爾離子源 eh 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
更新時間:2025-06-24
上海伯東美國KRi 霍爾離子源 eH 系列,真空鍍膜離子源
美國 kri 霍爾離子源 eh 系列緊湊設(shè)計, 高電流低能量寬束型離子源, 提供原子等的細微加工能力, 霍爾離子源 eh 可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用. 霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設(shè)計提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護.
更新時間:2025-06-24
上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 100,高能量射頻源
上海伯東代理美國原裝進口 kri 考夫曼型離子源 rficp 100 緊湊設(shè)計, 適用于離子濺鍍和離子蝕刻. 小尺寸設(shè)計但是可以輸出 >400 ma 離子流. 考夫曼型離子源 rficp 100 源直徑19cm 安裝在10”cf 法蘭, 在離子濺鍍時, 離子源配有離子光學元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實現(xiàn)更佳的薄膜特性. 在離子刻蝕工藝中, 離子源與離子光學配合, 蝕刻更均勻. 標準配
更新時間:2025-06-24
上海伯東磁控共濺鍍設(shè)備,濺射鍍膜機,真空鍍膜機
上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準確控制多個磁控濺鍍的制程條件, 加裝美國 kri 離子源為客戶提供更好質(zhì)量的復(fù)合式薄膜.單片和多片式的loading chamber, 可節(jié)省其制程腔體的抽氣時間, 進而節(jié)省整體實驗時間. 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽能電池等行業(yè)以及氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.
更新時間:2025-06-24
上海伯東剝離成形電子束蒸鍍設(shè)備 Lift-Off,電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
上海伯東代理剝離成形電子束設(shè)備可以準確的控制蒸發(fā)速度, 因此薄膜厚度和均勻度皆小于 ±3％, 客制化的基板尺寸, 大直徑可達 12寸晶圓, 腔體的限真空度約為 10-8 torr.
更新時間:2025-06-24
上海伯東美國 KRi射頻離子源 RFICP 140,高能量射頻源
上海伯東代理美國原裝進口 kri 射頻離子源 rficp 140 是一款緊湊的有柵離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中，射頻離子源 rficp 140 配有離子光學元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實現(xiàn)更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務(wù). 就標準的型號而言, 可以在離子能
更新時間:2025-06-24
上海伯東超高真空電子束蒸鍍設(shè)備,電子束蒸發(fā)系統(tǒng),真空鍍膜機
上海伯東代理 syskey 臺灣矽碁科技超高真空電子束蒸鍍設(shè)備腔體限真空度約為 10-10torr, 針對超高真空和高溫加熱設(shè)計基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機構(gòu), 使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn), 并在內(nèi)部做水冷循環(huán)來保護機構(gòu)以確保長時間運轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性, 可以提供高質(zhì)量的薄膜, 薄膜均勻度小于 ±3％.
更新時間:2025-06-24
上海伯東射頻離子源 RFICP 220,高能量射頻源
上海伯東代理美國原裝進口 kri 射頻離子源 rficp 220 高能量柵離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 rficp 220 配有離子光學元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實現(xiàn)更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務(wù). 標準配置下射頻離子源 rficp 220 離子能量范圍
更新時間:2025-06-24
上海伯東電子束蒸鍍設(shè)備 E-beam,電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
上海伯東代理 syskey 臺灣矽碁科技電子束蒸鍍設(shè)備是一種實用且高度可靠的系統(tǒng), 蒸鍍系統(tǒng)可針對量產(chǎn)使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達到產(chǎn)品多層膜結(jié)構(gòu). 在基板乘載上針對半導(dǎo)體研究和大型設(shè)備設(shè)計, 單片和多片公自轉(zhuǎn)的設(shè)計可以控制蒸發(fā)速率, 薄膜厚度和均勻度小于 +/- 3％. 腔體的限真空度約為 10-8 torr. 為了獲得盡可能大的制程靈活性, 可以結(jié)合美國 kri 離子源進行離子輔助沉積或
更新時間:2025-06-24
上海伯東美國 KRi 大面積射頻離子源 RFICP 380,高能量離子源
上海伯東美國 kri 大口徑射頻離子源 rficp 380, 3層柵設(shè)計, 柵口徑 38cm, 提供離子動能 100-1200ev 寬束離子束, 大離子束流 > 1000ma, 滿足 300 mm (12英寸)晶圓應(yīng)用. 廣泛應(yīng)用于離子束刻蝕機.
更新時間:2025-06-24
上海伯東超高真空磁控濺鍍設(shè)備,濺射鍍膜機,真空鍍膜機
上海伯東代理超高真空磁控濺鍍設(shè)備 uhv sputter 廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體, 納米科技, 太陽能電池,科研等行業(yè), 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.
更新時間:2025-06-24
上海伯東原子層沉積設(shè)備 Thermal ALD
上海伯東代理原子層沉積設(shè)備可以精準的控制 ald 的制程, 薄膜的厚度和均勻度皆小于 +/- 1％, 廣泛應(yīng)用于 oled 和硅太陽能電池的鈍化層, 微機電系統(tǒng), 納米電子學, 納米孔結(jié)構(gòu)薄膜, 光學薄膜, 薄膜封裝技術(shù)等域.
更新時間:2025-06-24
英國HHV公司多功能鍍膜設(shè)備
英國hhv公司的hhv auto系列產(chǎn)品是一種多功能鍍膜設(shè)備（熱阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)和濺射可選），設(shè)計用于滿足科研工作者和電子顯微學家的需求。auto系列可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標準化工藝附件，提供一系列實驗技術(shù)以滿足現(xiàn)代化實驗室的需要。張先生 139-（#qq.com）聯(lián)系人：張先生 139-115145
更新時間:2025-06-23
金剛石微波等離子CVD系統(tǒng)
美國cts公司提供的cts-6u型6kw微波等離子金剛石cvd系統(tǒng)具有高度可重復(fù)的真空完整性設(shè)計特點，能夠在接近大氣壓范圍內(nèi)運行，用于高沉積速率的單晶工藝。它還可以合成高純度的高均勻性和大面積的單晶和多晶。腔室、觀察窗和沉積臺的設(shè)計與先進的計算機過程控制相結(jié)合，具有無人值守的安全互鎖功能，可以獲得高可靠性、長時間穩(wěn)定性。cts-6u是最新一代cvd金剛石反應(yīng)器，專為滿足高產(chǎn)量、高質(zhì)量、高性價比的生
更新時間:2025-06-23
WP-15 美國SVT超高真空解理機/解理鍍膜機
svt公司的樣品解理部件可以將15mm（其他尺寸可選）的方形樣品解理成15個1mm×15mm的bar條。所有解理出的bar條被收集到樣品托，堆疊在一起進行下一步批量加工。獨特設(shè)計的解理工具避免了器件被破壞以及樣品互相黏在一起的可能性。此解理工具可適用于uhv環(huán)境。解理機可以增加鈍化層沉積模塊。解理后堆疊在一起的bar條直接進入鈍化室，不用暴露大氣。
更新時間:2025-06-23
上海到漢中物流公司A
上海到漢中物流公司 從上海貨運到漢中需要多少錢？貨運公司哪家好?推薦漢中物流400-697-cc，兢兢業(yè)業(yè)，風雨無阻，公司專業(yè)承接；
更新時間:2025-06-22
縱向式Cat-CVD設(shè)備
縱向式cat-cvd設(shè)備ccv系列ccv series是a-si鍍膜用的縱向式cvd設(shè)備。有30年以上的量產(chǎn)實績。在各個chamber通過低壓鍍膜，得到高品質(zhì)的膜質(zhì)。
更新時間:2025-06-13
枚葉式PECVD設(shè)備
枚葉式pecvd設(shè)備cme-200e/400枚葉式pe-cvd設(shè)備cme-200e/400是適用于si系絕緣膜、barrier膜等成膜的量產(chǎn)用pecvd設(shè)備。
更新時間:2025-06-13
Load-lock式Plasma CVD設(shè)備
load-lock式plasma cvd設(shè)備 cc-200/400load-lock式plasma cvd設(shè)備cc-200/400是小型的使用便利的可對應(yīng)從研究開發(fā)到量產(chǎn)的設(shè)備。
更新時間:2025-06-13
枚葉式等離子CVD設(shè)備
枚葉式等離子cvd設(shè)備cmd系列cmd系列是用sih4和teos成膜的a-si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚葉式cvd設(shè)備。
更新時間:2025-06-13
美國 磁控濺射鍍膜機(Sputter)
更新時間:2025-06-13

最新產(chǎn)品

熱門儀器： 液相色譜儀 氣相色譜儀 原子熒光光譜儀 可見分光光度計 液質(zhì)聯(lián)用儀 壓力試驗機 酸度計（PH計） 離心機 高速離心機 冷凍離心機 生物顯微鏡 金相顯微鏡 標準物質(zhì) 生物試劑