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日立高新磁控濺射器
日立高新磁控濺射器(hitachi ion sputter )mc1000采用了電磁管電極,能夠最大限度地減輕對樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
更新時(shí)間:2025-06-06

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