掃描電子顯微鏡（SEM）產(chǎn)品及廠家

SEM掃描電鏡，臺式掃描電子顯微鏡
sem掃描電鏡，臺式掃描電子顯微鏡在電子學(xué)研究中，掃描電鏡主要可以用來觀測及分析半導(dǎo)體、數(shù)據(jù)存儲材料、太陽能電池、led、元器件、pcb板及mems器件等的形態(tài)或缺陷 。
更新時(shí)間:2025-11-03
供應(yīng)蘇州日立TM4000Ⅱ掃描電鏡
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨(dú)特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進(jìn)行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測器，可采集四個(gè)不同方向的圖像信息，對樣品進(jìn)行多種模式成像。具有全新的sem-map導(dǎo)航功能，同時(shí)，電鏡圖片可以報(bào)告形式導(dǎo)出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時(shí)間:2025-11-03
供應(yīng)蘇州日立TM4000Ⅱ掃描電鏡
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨(dú)特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進(jìn)行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測器，可采集四個(gè)不同方向的圖像信息，對樣品進(jìn)行多種模式成像。具有全新的sem-map導(dǎo)航功能，同時(shí)，電鏡圖片可以報(bào)告形式導(dǎo)出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時(shí)間:2025-11-03
供應(yīng)蘇州日立FlexSEM1000 II鎢燈絲掃描電鏡
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡單、性能強(qiáng)、擴(kuò)展功能豐富等特點(diǎn)。flexsem1000 ii配備了二次電子探測器和背散射電子探測器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時(shí)具有低真空功能，可以直接觀察不導(dǎo)電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導(dǎo)航和5軸樣品臺可以快速、高效的完成觀察任務(wù)。
更新時(shí)間:2025-11-03
供應(yīng)蘇州日立TM4000Ⅱ掃描電鏡
日立tm4000ⅱ掃描電鏡獨(dú)特的低真空系統(tǒng)使得樣品不需任何處理即可快速進(jìn)行觀察。 tm4000ⅱ優(yōu)化提供5kv、10kv、15kv、20kv四種不同電壓下的觀察模式，每種模式下電流4檔可調(diào)，并配備4分割背散射探測器，可采集四個(gè)不同方向的圖像信息，對樣品進(jìn)行多種模式成像。具有全新的sem-map導(dǎo)航功能，同時(shí)，電鏡圖片可以報(bào)告形式導(dǎo)出。配備大型樣品倉，可容納大樣品直徑80mm，厚度50mm。
更新時(shí)間:2025-11-03
供應(yīng)蘇州日立FlexSEM1000 II鎢燈絲掃描電鏡
flexsem1000 ii是日立新的落地式小型鎢燈絲掃描電鏡，具有體積小、操作簡單、性能強(qiáng)、擴(kuò)展功能豐富等特點(diǎn)。flexsem1000 ii配備了二次電子探測器和背散射電子探測器，可以觀察樣品的形貌和成分；同時(shí)具有低真空功能，可以直接觀察不導(dǎo)電樣品和含水樣品；配合新增的sem-map光鏡導(dǎo)航和5軸樣品臺可以快速、高效的完成觀察任務(wù)。
更新時(shí)間:2025-11-03
供應(yīng)日立SU9000新型超高分辨冷場發(fā)射掃描電鏡
日立2011年新推出了su9000超高分辨冷場發(fā)射掃描電鏡，達(dá)到掃描電鏡世界最高二次電子分辨率0.4nm和stem分辨率0.34nm。日立su9000采取了全新改進(jìn)的真空系統(tǒng)和電子光學(xué)系統(tǒng)，不僅分辨率性能明顯提升，而且作為一款冷場發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的flashing操作，可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。 特點(diǎn)： 1. 新型
更新時(shí)間:2025-11-03
供應(yīng)蘇州日立S-3400N掃描電子顯微鏡
s­-3400n掃描電子顯微鏡 s-3400n具有最新開發(fā)的電子光學(xué)系統(tǒng)，強(qiáng)大的自動化功能，操作更簡易。 特點(diǎn): 1. s-3400n具有強(qiáng)大的自動功能，包括自動燈絲飽和、4偏壓、自動槍對中、自動束流設(shè)定、 自動合軸自動聚焦和消像散、自動亮度對比度等。 2. 在3kv低加速電壓時(shí)
更新時(shí)間:2025-11-03
供應(yīng)蘇州日立S-3700N 多功能分析型可變壓掃描電鏡
s-3700n 多功能分析型可變壓掃描電鏡 研究超大，超重，超高樣品的分析型掃描電鏡 ● 最大可載樣品直徑達(dá)300mm ●最大觀察區(qū)域直徑達(dá)203mm ● 在觀察110mm高樣品時(shí)可進(jìn)行能譜分析 ● 樣品室設(shè)置多種接口，可安裝eds、wds、ebsd和cl等多種分析用附件 ● 5軸優(yōu)中心馬達(dá)臺可以傾
更新時(shí)間:2025-11-03
掃描電子顯微鏡
日立高新推出的掃描電鏡su3800/su3900兼具操作性和擴(kuò)展性，結(jié)合眾多的自動化功能，可高效發(fā)揮其高性能。su3900標(biāo)配多功能超大樣品倉，可應(yīng)對大型樣品的觀察。
更新時(shí)間:2025-11-02
臺式顯微鏡
臺式掃描電子顯微鏡(sem)全新升。我們以“更高畫質(zhì)、更易于使用、更易于觀察”為理念，開發(fā)出tm4000系列。在此基礎(chǔ)上，我們又推出功能更為多樣的tm4000ⅱ系列。為您提供全新的觀察和分析應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-11-02
掃描電子顯微鏡
寬幅僅為45 cm的緊湊型的設(shè)計(jì)，仍具備4.0 nm的圖像分辨率。全新開發(fā)的用戶界面和電子光學(xué)系統(tǒng)讓您深切體驗(yàn)其高性能。
更新時(shí)間:2025-11-02
臺式掃描電子顯微鏡
zem15臺式掃描電子顯微鏡采用自主研發(fā)的鎢燈絲電子槍,加速電壓在1-15kv范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào),可同時(shí)搭配二次電子探測器,散射電子探測器,zem15臺式掃描電子顯微鏡秉承操作便捷、快速成像、性能穩(wěn)定的設(shè)計(jì)目標(biāo)，澤攸科技自主研發(fā)了鎢燈絲zem15臺式掃描電子顯微鏡。zem15臺式掃描電鏡速度快，信號采集帶寬10m，可以在視頻模式下流暢實(shí)時(shí)的顯示樣品。
更新時(shí)間:2025-11-02
臺式掃描電子顯微鏡
zem18臺式掃描電鏡信號采集帶寬高達(dá)10m，掃描速度快，視頻模式下實(shí)時(shí)觀察樣品，無重影、拖影，不錯(cuò)過每一個(gè)細(xì)節(jié)。兼容澤攸科技多種原位功能樣品臺（拉伸臺、加熱臺、tec冷臺等原位測試系統(tǒng)）
更新時(shí)間:2025-11-02
臺式掃描電子顯微鏡
zem20臺式掃描電微鏡操作簡便，僅需鼠標(biāo)即可完成所有操作，一體式聚光鏡，無需手動調(diào)節(jié)光闌。信號采集帶寬高達(dá)10m，掃描速度快，視頻模式下實(shí)時(shí)觀察樣品。豐富的原位拓展功能，可兼容自研原位電鏡附件（拉伸樣品臺、加熱臺、tec冷臺等）。
更新時(shí)間:2025-11-02
原位拉伸-掃描電鏡
zem15原位拉伸-掃描電鏡 采用自主研發(fā)的鎢燈絲電子槍，加速電壓在1-15kv范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)，搭配二次電子探測器、背散射電子探測器、1000n原位拉伸樣品臺，實(shí)現(xiàn)掃描電鏡內(nèi)的原位拉伸/壓縮/彎曲實(shí)驗(yàn)。
更新時(shí)間:2025-11-02
蔡司 EVO系列掃描電子顯微鏡
蔡司 evo系列掃描電子顯微鏡evo系列將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗(yàn)結(jié)合在一起， 同時(shí)能夠吸引經(jīng)驗(yàn)豐富的用戶以及新用戶。無論是在生命科學(xué)， 材料科學(xué)， 或例行的工業(yè)質(zhì)量保證和失效分析域，憑借廣泛的可選配置， evo 都可以根據(jù)您的要求量身定制。
更新時(shí)間:2025-11-02
蔡司 Sigma系列場發(fā)射掃描電子顯微鏡
蔡司 sigma系列場發(fā)射掃描電子顯微鏡：用于高品質(zhì)成像與高分析的場發(fā)射掃描電子顯微鏡將高的分析性能與場發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 gemini 電子光學(xué)元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。sigma 半自動的4步工作流程節(jié)省大量的時(shí)間：設(shè)置成像與分析步驟，提高效率。sigma 300 性價(jià)比高。s
更新時(shí)間:2025-11-02
透射電鏡原位MEMS加熱/電學(xué)測量系統(tǒng)
picofemto透射電鏡原位mems加熱/電學(xué)測量系統(tǒng)，透射電子顯微鏡是提供在較高時(shí)間分辨率下得到原子空間分辨率的實(shí)驗(yàn)手段。
更新時(shí)間:2025-11-02
德國蔡司場發(fā)射掃描電子顯微鏡@2023日熱點(diǎn)
sigma 300 性價(jià)比高。sigma 500 裝配有一流的背散射幾何探測器，可快速方便地實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)分析。任何時(shí)間，任何樣品均可獲得精準(zhǔn)可重復(fù)的分析結(jié)果。
更新時(shí)間:2025-11-02
德國蔡司場發(fā)射掃描電子顯微鏡@2023日頭條推薦
sigma 300 性價(jià)比高。sigma 500 裝配有一流的背散射幾何探測器，可快速方便地實(shí)現(xiàn)基礎(chǔ)分析。任何時(shí)間，任何樣品均可獲得精準(zhǔn)可重復(fù)的分析結(jié)果。
更新時(shí)間:2025-11-02
德國蔡司ZEISS鎢燈絲掃描電鏡@2023動態(tài)已更新《新品/推薦 》
evo系列電鏡是高性能、功能強(qiáng)大的高分辨應(yīng)用型掃描電子顯微鏡。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)的物鏡設(shè)計(jì)，提供高低真空成像功能，可對各種材料表面作分析，并且具有業(yè)界先的x射線分析技術(shù)。
更新時(shí)間:2025-11-02
日本電子掃描電子顯微鏡
日本電子掃描電子顯微鏡jcm-700強(qiáng)大的"zeromag"功能，讓您從光學(xué)顯微鏡的觀察方式，輕松的無縫接軌到掃描電鏡的影像觀察。"live analysis"則實(shí)現(xiàn)了sem影像觀察時(shí)實(shí)時(shí)的eds成份分析。
更新時(shí)間:2025-10-31
日本電子熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本電子熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡適用于納米材料、化學(xué)、新材料、半導(dǎo)體器件的觀察和分析。
更新時(shí)間:2025-10-31
和伍水浸超聲掃描顯微鏡半導(dǎo)體缺陷檢測儀
超聲掃描顯微鏡（sat）是一種利用超聲波為傳播媒介的無損檢測成像設(shè)備，主要利用高頻超聲波，對各類半導(dǎo)體器件、材料進(jìn)行檢測，能夠檢測出樣品內(nèi)部的氣孔、裂紋、夾雜和分層等缺陷，并以圖形的方式直觀展示。在掃描過程中，不會對樣品造成損傷，不會影響樣品性能，可有效滿足新能源、半導(dǎo)體、電力電子、熱管理材料、金剛石復(fù)合材料、碳纖維復(fù)合材料等行業(yè)需求。
更新時(shí)間:2025-10-31
飛納臺式自動化掃描電鏡大樣品室版
的易于學(xué)習(xí)的界面可幫助您快速掌握信息，是各種應(yīng)用的理想選擇。phenom xl g3 平均成像時(shí)間僅為 40 秒，比市場上其他臺式電鏡的速度快 5 倍之多。系統(tǒng)可對最大 100 x 100mm 的樣品進(jìn)行分析，8nm 的分辨率為分析提供更多的細(xì)節(jié)。專利設(shè)計(jì)的放氣 / 樣品裝載系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)全世界相對較快的放氣 / 裝載速度，并獲得非常少有的比較高的樣品吞吐效率。
更新時(shí)間:2025-10-31
飛納臺式掃描電子顯微鏡 Phenom Pro
飛納高分辨率業(yè)版 phenom pro 是飛納電鏡系列中先進(jìn)的產(chǎn)品，第五代 phenom pro 放大倍數(shù)提升為 150,000 倍，分辨率優(yōu)于 8 nm，30 快速得到表面細(xì)節(jié)豐富的高質(zhì)量圖像
更新時(shí)間:2025-10-31
Phenom MAPS 大面積圖像拼接
phenom maps 作為一款多模態(tài)多維度地圖式圖像自動采集及拼接軟件，可自動獲取大型圖像數(shù)據(jù)集，并直觀地組合和關(guān)聯(lián)多種成像、分析模式，從而提供多尺度和多模態(tài)的表征數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-10-31
ChemiSEM 彩色成像技術(shù)
飛納電鏡推出的 chemisem 技術(shù)，將 sem 形貌觀察與 eds 成分分析相結(jié)合，讓工作流程更加流暢，簡化了許多材料（包括金屬、陶瓷、電池、涂層、水泥和軟物質(zhì)材料等）的分析流程：通過彩色元素分布圖與 sem 圖像的實(shí)時(shí)疊加，在成像同時(shí)提供高質(zhì)量的成分定性定量信息。
更新時(shí)間:2025-10-31
飛納電鏡全景拼圖【新品】
全新界面，一鍵掃描更便捷掃描“形狀”自定義大樣品全景觀測高清圖像無錯(cuò)位
更新時(shí)間:2025-10-31
適用金屬和礦物研究—飛納電鏡物相分析軟件
適用金屬和礦物研究—飛納電鏡chemiphase物相分析軟件更容易，更全面，更準(zhǔn)確的物相分析
更新時(shí)間:2025-10-31
飛納臺式掃描電子顯微鏡 Phenom ProX
飛納電鏡能譜一體機(jī) phenom prox 是終的集成化成像分析系統(tǒng)。借助該系統(tǒng)，既可觀察樣品的表面形貌，又可分析其元素組分。
更新時(shí)間:2025-10-31
蔡司電腦斷層掃描測量機(jī)2022動態(tài)已更新《采購/推薦》
蔡司電腦斷層掃描測量機(jī)-多探頭測量機(jī)設(shè)備;工業(yè)計(jì)算機(jī)斷層掃描（ct）為您提供了quanxin的洞見，讓您可以快速采集所有內(nèi)部結(jié)構(gòu)的體積。蔡司是快速ct的先驅(qū)，并且能夠在生產(chǎn)周期中對組件進(jìn)行完整的以體積為基礎(chǔ)的檢查。
更新時(shí)間:2025-10-28
德Neaspec真空太赫茲波段近場光學(xué)顯微鏡
德neaspec真空太赫茲波段近場光學(xué)顯微鏡hv-thz-neasnom，該套系統(tǒng)成功地繼承了德國neaspec公司thz-neasnom的設(shè)計(jì)優(yōu)勢，采用專利保護(hù)的雙光路設(shè)計(jì)，完全可以實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下太赫茲波段應(yīng)用的樣品測量。hv-thz-neasnom在實(shí)現(xiàn)30nm高空間分辨率的同時(shí)，由于采用0.1-3thz波段的時(shí)域太赫茲光源（thz-tds），也可以實(shí)現(xiàn)近場太赫茲成像和圖譜的同時(shí)測量。
更新時(shí)間:2025-10-27
太赫茲近場光學(xué)顯微鏡
thz-neasnom太赫茲近場光學(xué)顯微鏡 -30nm光學(xué)信號空間分辨率
更新時(shí)間:2025-10-27
ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡
zeiss 高分辨電子掃描顯微鏡-evo 10,具備自動化工作流程的高清晰掃描電鏡
更新時(shí)間:2025-10-27
德國KSI 型 全自動晶圓超聲波缺陷檢測系統(tǒng)
德國ksi i-wafer型全自動晶圓超聲波缺陷檢測系統(tǒng)，在ksi i-wafer的探測下，晶圓中的孔隙、分層或者雜質(zhì)都能被發(fā)現(xiàn)。尺寸在450mm的多種晶圓也能進(jìn)行檢測
更新時(shí)間:2025-10-27
KSI 型全自動晶錠分析檢測系統(tǒng)
ksi i-ingot型全自動晶錠分析檢測系統(tǒng),適用于對晶錠的無損檢測，有了它，晶錠內(nèi)部的裂縫或雜質(zhì)就能得到快速檢測，晶錠的尺寸可達(dá)450mm，檢測時(shí)間短，也不需要做其它設(shè)定。
更新時(shí)間:2025-10-27
KSI高分辨率表層缺陷超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi－nano型高分辨率表層缺陷超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)聲學(xué)顯微成像系統(tǒng)和光學(xué)顯微成像系統(tǒng)的完美結(jié)合
更新時(shí)間:2025-10-27
德國KSI 雙探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)
ksi v-duo 雙探頭超聲波掃描顯微鏡系統(tǒng)，同時(shí)使用2只換能器
更新時(shí)間:2025-10-27
德國ZEISS蔡司聚焦離子束掃描電鏡FIB/SEM
德國zeiss蔡司聚焦離子束掃描電鏡fib/sem crossbeam 350，crossbeam 550
更新時(shí)間:2025-10-27
日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it200 intouchscope ，是一款更簡潔、更易于使用且性價(jià)比高的掃描電子顯微鏡。使用初學(xué)者易懂的樣品交換導(dǎo)航，可以輕松地從樣品臺搜索視野并開始觀察sem圖像。zeromag能像光鏡一樣直觀地搜索視野，live analysis*2可以不用特意分析就能實(shí)時(shí)獲取元素分析結(jié)果，smile viewtm lab能綜合編輯觀察和分析報(bào)告等。
更新時(shí)間:2025-10-27
日本JEOL掃描電子顯微鏡
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500hr，采用新開發(fā)的高亮度電子槍和透鏡系統(tǒng)，可以更迅速便捷地提供令人驚嘆的高分辨率圖像、高靈敏度和高空間分辨率；從設(shè)定視野到生成報(bào)告，利用完全集成的軟件大大地提高了作業(yè)速度。
更新時(shí)間:2025-10-27
日本JEOL熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡
日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f
更新時(shí)間:2025-10-27
日本JEOL低溫冷凍離子切片儀
日本jeol低溫冷凍離子切片儀ib-09060cis，冷卻保持時(shí)間長，有效地抑制了熱損傷。易受熱損傷的樣品，也能方便地制作出薄膜樣品和截面樣品。
更新時(shí)間:2025-10-27
日本JEOL 離子切片儀
日本jeol 離子切片儀 em-09100is ，用于tem 、stem 、 sem 、 epma 和 auger樣品制備的創(chuàng)新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統(tǒng)制備工具快速、簡單。低能量、低角度（0°到6°）的氬離子束通過遮光帶照射樣品，大大降低了離子束對樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也好，對不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
更新時(shí)間:2025-10-27
日本JEOL截面樣品拋光儀
日本jeol截面樣品拋光儀ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-10-27
日本JEOL截面樣品制備裝置
日本jeol截面樣品制備裝置ib-19530cp，采用多用途樣品臺，通過交換各種功能性樣品座實(shí)現(xiàn)了功能的多樣化。根據(jù)需要可以選擇不同的功能性樣品座，不僅能截面刻蝕，還可以進(jìn)行平面刻蝕、離子束濺射鍍膜等。
更新時(shí)間:2025-10-27
日本JEOL 截面樣品拋光儀
日本jeol 截面樣品拋光儀 ib-19520ccp，在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時(shí)間長、液氮消耗少的構(gòu)造設(shè)計(jì)。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢復(fù)到室溫，并且可以拆卸。配有傳送機(jī)構(gòu)，在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀察的全過程。
更新時(shí)間:2025-10-27
日本JEOL 軟X射線分析譜儀
日本jeol 軟x射線分析譜儀，通過組合新開發(fā)的衍射光柵和高靈敏度ｘ射線ccd相機(jī)，實(shí)現(xiàn)了高的能量分辨率。 和eds一樣可以并行檢測，并且能以0.3ev(費(fèi)米邊處al-l基準(zhǔn))的高能量分辨率進(jìn)行分析，超過了wds的能量分辨率。
更新時(shí)間:2025-10-27

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