無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)產(chǎn)品及廠家

VPG 300 DI 無(wú)掩模直接成像儀光刻機(jī)
pg 300 di 是一款體積圖案發(fā)生器，為在 i 線光刻膠中直接寫(xiě)入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具，具有所有先進(jìn)的 vpg 系統(tǒng)組件，能夠以高的精度和準(zhǔn)確度進(jìn)行書(shū)寫(xiě)。大寫(xiě)入?yún)^(qū)域覆蓋
更新時(shí)間:2025-09-09
mpo 100雙光子聚合直寫(xiě)光刻機(jī)是一種雙光子聚合 （tpp） 多用戶工具，用于微結(jié)構(gòu)的 3d 光刻和 3d 顯微打印，適用于微光學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)械學(xué)和生物醫(yī)學(xué)工程。模塊化 3d 打印平臺(tái) mpo 100 可按需提供高精度 3d 光刻以及 3d 顯微打印的高打印量，并能夠在單個(gè)工藝步驟中以高吞吐量生產(chǎn)復(fù)雜的功能性微結(jié)構(gòu)。
更新時(shí)間:2025-09-09
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻機(jī)
dwl 2000 gs / dwl 4000 gs 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對(duì)工業(yè)灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化，設(shè)計(jì)用于集成電路、mems、微光學(xué)和微流體器件、傳感器、全息圖以及鈔票的防偽特征的掩模和晶圓的高通量圖案化。
更新時(shí)間:2025-09-09
MLA 300 無(wú)掩模光刻機(jī)
mla 300 無(wú)掩模光刻機(jī) 提供高吞吐量、簡(jiǎn)化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) （mes） 的集成。該工具用于生產(chǎn)傳感器和傳感器 ic、mems 和微流體器件。其他應(yīng)用包括分立電子元件、模擬和數(shù)字 ic、asic、電力電子、oled 顯示器和先進(jìn)封裝。
更新時(shí)間:2025-09-09
μMLA無(wú)掩模光刻機(jī)
臺(tái)式 μmla 系統(tǒng)是先進(jìn)的無(wú)模板技術(shù)，建立在的 μpg 平臺(tái)之上，該平臺(tái)是全球高的臺(tái)式無(wú)模板系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2025-09-09
無(wú)掩模光刻機(jī)VPG 300 DI
無(wú)掩模光刻機(jī)vpg 300 di是一款體積圖案發(fā)生器，為在 i 線光刻膠中直接寫(xiě)入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具，具有所有先進(jìn)的 vpg 系統(tǒng)組件，能夠以高的精度和準(zhǔn)確度進(jìn)行書(shū)寫(xiě)。大寫(xiě)入?yún)^(qū)域覆蓋 300 mm 晶圓。
更新時(shí)間:2025-09-09
電子束光刻設(shè)備
els-boden σ這是elonix自創(chuàng)業(yè)以來(lái)多年來(lái)一直致力于開(kāi)發(fā)的新型號(hào)的電子束光刻設(shè)備。 采用模塊系統(tǒng)，可以自由組合加速電壓、腔室尺寸、傳輸機(jī)構(gòu)和防振臺(tái)，為每個(gè)應(yīng)用構(gòu)建佳單元。
更新時(shí)間:2025-09-09
電子束光刻設(shè)備
els-boden是由elionix開(kāi)發(fā)的電子束光刻設(shè)備，非常適合研究和開(kāi)發(fā)！支持從高清繪圖到大電流高速繪圖的廣泛應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-09-09
電子束光刻設(shè)備
els-hayate是由elionix研發(fā)的超高吞吐量電子束光刻設(shè)備，提供業(yè)界大的 5 毫米偏轉(zhuǎn)。，非常適合需要關(guān)注字段間拼接錯(cuò)誤的應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-09-09
BIO L+ 無(wú)掩膜光刻機(jī)
bio系列是生命科學(xué)版的無(wú)掩膜紫外光刻機(jī)，該設(shè)備具有更高的深寬比，能滿足生命科學(xué)域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類(lèi)的具有特定需求的樣品 。在微流控芯片的制造過(guò)程中，其高深寬比和高靈活性的特點(diǎn)得以展現(xiàn)，可確保芯片的質(zhì)量和性能。這使得它成為生命科學(xué)研究和相關(guān)應(yīng)用中的重要工具。
更新時(shí)間:2025-09-09
UV Litho-S 無(wú)掩膜光刻機(jī)
speed系列是高速版的無(wú)掩膜版紫外光刻機(jī)，其無(wú)掩膜光刻機(jī)配備了先進(jìn)的高速空間光調(diào)制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機(jī)不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一基礎(chǔ)上，擁有了更高的光刻效率。其的性能特點(diǎn)使其特別適合小批量生產(chǎn)的場(chǎng)景。在該場(chǎng)景中，它能夠發(fā)揮出其高效的優(yōu)勢(shì)，為生產(chǎn)帶來(lái)更高的效率和更好的質(zhì)量。
更新時(shí)間:2025-09-09
手動(dòng)光刻機(jī)
ms6-ca手動(dòng)光刻機(jī)是一款高性能的精密加工設(shè)備，為微電子、半導(dǎo)體、光電等域的研發(fā)與生產(chǎn)設(shè)計(jì)
更新時(shí)間:2025-09-09
CANON光刻機(jī)主要型號(hào)及參數(shù)詳解
canon光刻機(jī)主要型號(hào)及參數(shù)詳解,canon（佳能）的光刻機(jī)雖然在市場(chǎng)份額上不如asml，但在特定領(lǐng)域（如ic前道、后道封裝、面板顯示等）仍有一定競(jìng)爭(zhēng)力。
更新時(shí)間:2025-09-08
ASML光刻機(jī)主要型號(hào)及參數(shù)
asml光刻機(jī)主要型號(hào)及參數(shù),涵蓋duv（深紫外）和euv（極紫外）兩大技術(shù)路線
更新時(shí)間:2025-09-08
ASML光刻機(jī)型號(hào)與性能詳解
asml光刻機(jī)型號(hào)與性能詳解,asml是全 球領(lǐng) 先的光刻機(jī)制造商，其產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造，尤其是高 端芯片的生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-09-08
尼康主要的光刻機(jī)型號(hào)及其關(guān)鍵參數(shù)
尼康（nikon）是光刻機(jī)領(lǐng)域的重要廠商之一，尤其在duv（深紫外）光刻機(jī)市場(chǎng)中占據(jù)重要地位。涵蓋i-line、krf和arf等技術(shù)節(jié)點(diǎn)，以及與euv（極紫外）
更新時(shí)間:2025-09-08
NIKON光刻機(jī)型號(hào)及參數(shù)詳解
尼康（nikon）是光刻機(jī)領(lǐng)域的重要廠商之一，尤其在duv（深紫外）光刻機(jī)市場(chǎng)中占據(jù)重要地位，其產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、面板顯示等領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-09-08
ASML 光刻機(jī) NXT1950i
asml光刻機(jī) nxt1950i ，general product information?
更新時(shí)間:2025-09-08
多波段定制型紫外光刻機(jī)
具備真空接觸曝光、硬接觸曝光、壓力接觸曝光，以及接近式曝光四種功能
更新時(shí)間:2025-09-08
ASML 光刻機(jī) Twinscan NXT:1980Di
asml 光刻機(jī) twinscan nxt:1980di
更新時(shí)間:2025-09-08
原裝進(jìn)口SGM液位傳感器
上海祥樹(shù)歐茂機(jī)電設(shè)備有限公司成立于1999年，經(jīng)過(guò)多年的努力與良好的信譽(yù)度，公司與國(guó)際機(jī)電行業(yè)品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個(gè)穩(wěn)定而高效的全球化國(guó)際供應(yīng)鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務(wù)。
更新時(shí)間:2025-08-13
原裝進(jìn)口BLITZ備件
上海祥樹(shù)歐茂機(jī)電設(shè)備有限公司成立于1999年，經(jīng)過(guò)多年的努力與良好的信譽(yù)度，公司與國(guó)際機(jī)電行業(yè)品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個(gè)穩(wěn)定而高效的全球化國(guó)際供應(yīng)鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務(wù)。
更新時(shí)間:2025-08-13
原裝進(jìn)口TST備件
上海祥樹(shù)歐茂機(jī)電設(shè)備有限公司成立于1999年，經(jīng)過(guò)多年的努力與良好的信譽(yù)度，公司與國(guó)際機(jī)電行業(yè)品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個(gè)穩(wěn)定而高效的全球化國(guó)際供應(yīng)鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務(wù)。
更新時(shí)間:2025-08-13
上海祥樹(shù)供應(yīng)MTS位移傳感器
上海祥樹(shù)歐茂機(jī)電設(shè)備有限公司成立于1999年，經(jīng)過(guò)多年的努力與良好的信譽(yù)度，公司與國(guó)際機(jī)電行業(yè)品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個(gè)穩(wěn)定而高效的全球化國(guó)際供應(yīng)鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務(wù)。
更新時(shí)間:2025-08-13
德國(guó)Raith電子束光刻機(jī)EBPG
赫爾納供應(yīng)raith電子束光刻儀，德國(guó)原裝，貨期短，支持選型，為您提供一對(duì)一解決方案，在中國(guó)設(shè)有8個(gè)辦事處，可為您提供售前、售中和售后服務(wù)。
更新時(shí)間:2025-08-13
無(wú)掩膜激光直寫(xiě)納米光刻機(jī)
dali無(wú)掩膜納米光刻機(jī)是一款采用亞納米精度激光操控技術(shù)為核心的超穩(wěn)定，桌面型，高精度，高速激光直寫(xiě)設(shè)備。其核心技術(shù)已經(jīng)在在亞納米精度要求的儀器設(shè)備中經(jīng)過(guò)十幾年的應(yīng)用檢驗(yàn)。超高精度，和超高穩(wěn)定性是dali無(wú)掩膜納米光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)高性能的基礎(chǔ)。
更新時(shí)間:2025-07-09
主動(dòng)對(duì)焦 套刻 直接繪圖 無(wú)掩模光刻機(jī)
托托科技推出的無(wú)掩模光刻機(jī)，以其革命性的技術(shù)革新，為微電子、集成電路等制造領(lǐng)域帶來(lái)了靈活性和高效率。無(wú)論是在科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造，還是在電子器件、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件、微機(jī)械等眾多領(lǐng)域，我們的無(wú)掩模光刻機(jī)都能提供解決方案。
更新時(shí)間:2025-03-24
SI激光打標(biāo)機(jī)
本產(chǎn)品用于4~6英寸si類(lèi)晶片打標(biāo)。設(shè)備全自動(dòng)上下片，全自動(dòng)定位？梢允褂脭(shù)字，文字，條形碼在晶片任意部位打標(biāo)。打標(biāo)速度120片每小時(shí).
更新時(shí)間:2024-08-26
E30-H 上海小型無(wú)刷攪拌機(jī)
實(shí)驗(yàn)室攪拌機(jī)系列e30-h電動(dòng)數(shù)顯攪拌器（型）e30-h應(yīng)用領(lǐng)域|上海小型無(wú)刷攪拌機(jī)*_e30-h適用于生物、理化、化妝品、保健品、食品、試劑等實(shí)驗(yàn)領(lǐng)域。是液體混和攪拌的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。產(chǎn)品理念設(shè)計(jì)新穎、制
更新時(shí)間:2024-06-09
激光打標(biāo)機(jī)
本產(chǎn)品用于4~6英寸sic(含si）類(lèi)晶片打標(biāo)。設(shè)備全自動(dòng)上下片，全自動(dòng)定位？梢允褂脭(shù)字，文字，條形碼在晶片任意部位打標(biāo)。打標(biāo)速度120片每小時(shí).
更新時(shí)間:2024-02-01

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