美國 debee 2000 新一代改進型超高壓對射流均質機的詳細描述: 主要技術參數:專利型debee特有的乳化分散均質核心件。分散均質部件可自行調控,為您提供廣泛的實驗室應用。僅一次制程就可使產品達到預想的處理目標plc電控及簡易按鈕操作的監(jiān)控系統面板二臺同步的增壓腔,保證持續(xù)穩(wěn)定的制程高壓最高使用壓力可達45000psi(310mpa)可調背壓:0~5000 psi(34.5mpa)電源為二相的220v最大持續(xù)處理流量為1l/min操作樣品標準量為50ml,最小量為10ml配備物料在線冷卻罐電源380v-50hz-3相-7.5k
更新時間:2025-07-17