刻膠(resist)概述光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的英文名為resist,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應(yīng)用于集成電路(ic),封裝(packaging),微機(jī)電系統(tǒng)(mems),光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics),平板顯示器(led,lcd,oled),太陽(yáng)能
更新時(shí)間:2025-06-13