聯(lián)系我們
聯(lián)系人:陳生
產(chǎn)品展示
供應(yīng)大氣旋轉(zhuǎn)等離子設(shè)備
點(diǎn)擊次數(shù):595發(fā)布時(shí)間:2018/10/23

價(jià)格:¥電議
更新日期:2018/10/23 16:33:08
生 產(chǎn) 地:中國(guó)大陸
產(chǎn)品型號(hào):CRF-APO-DP1020-A
詳細(xì)內(nèi)容
可選配多種類型噴嘴,使用于不同場(chǎng)合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;
設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動(dòng),節(jié)省客戶使用空間;
可In-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;
使用壽命長(zhǎng),保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;
等離子清洗/刻蝕機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng),用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度,
隨著氣體越來越稀薄,分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來愈長(zhǎng),受電場(chǎng)作用,它們發(fā)生碰撞而形成
等離子體,這些離子的活性很高,其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵,在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng),不同
氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體,從
而達(dá)到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理
時(shí)會(huì)發(fā)出輝光,故稱之為輝光放電處理。
等離子體清洗的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)
機(jī)理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸
附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
PTFE
等離子體清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)
高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實(shí)現(xiàn)整
體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。